非均一な磁界を有する磁気励起プラズマチャンバ

発明者： , , , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川芳樹 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-360401
公開番号（公開出願番号）：特開平10-233390
出願日： 1997年12月26日
公開日（公表日）： 1998年09月02日
要約：

【要約】【課題】ワークピースの表面の上に一様なイオン流束の瞬間分布を生成する。具体的には、我々の発明において磁気励起は、新規な磁界パターンを生成するマグネットによってなされる。ワークピースに平行且つこれに隣接する領域内では、その地点における磁界の方向が、(1)その点における磁界の大きさの勾配と(2)ワークピース面から垂直にプラズマの方へ延びるベクトルとのベクトル外積となるように、瞬間磁界の大きさと方向が関連している。【解決手段】磁気励起は、新規な磁界パターンを生成するマグネットによってなされる。ワークピースに平行且つこれに隣接する領域内では、その地点における磁界の方向が、(1)その点における磁界の大きさの勾配と(2)ワークピース面から垂直にプラズマの方へ延びるベクトルとのベクトル外積となるように、瞬間磁界の大きさと方向が関連している。

請求項（抜粋）：

プラズマから半導体ワークピース表面へのイオン流束の瞬間的な空間的均一性を向上する磁気励起プラズマチャンバであって、平坦な半導体ワークピースを保持することにより、ワークピースがワークピース領域を占めるようなる、ワークピース保持のためのチャックと、該ワークピース領域の上方の第1の領域にプラズマを生成するプラズマソースと、平坦な第2の領域に磁界を発生させるためのマグネットであって、該第2の領域のあらゆる地点において磁界の方向が、(i)該地点における磁界の大きさの勾配と、(ii)ワークピースからプラズマに向かって垂直に伸びるベクトルと、のベクトル外積にほぼ等しい、前記マグネットとを備え、該第2の領域が該ワークピース領域と平行且つ該ワークピース領域に隣接しており、また、該第2の領域が該ワークピース領域の表面積の少なくとも半分となる表面積を有する、磁気励起プラズマチャンバ。

IPC (5件)：

H01L 21/3065 , H01L 21/02 , H01L 21/203 , H01L 21/205 , H05H 1/46

FI (5件)：

H01L 21/302 B , H01L 21/02 Z , H01L 21/203 S , H01L 21/205 , H05H 1/46 M

引用特許：

出願人引用 (11件)

プラズマCVD方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-293119 出願人：三菱重工業株式会社
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-059876 出願人：東京エレクトロン株式会社
プラズマエッチング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-289150 出願人：日本真空技術株式会社, 沖電気工業株式会社

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審査官引用 (12件)

プラズマ発生装置およびプラズマ発生方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-084398 出願人：東京エレクトロン株式会社, 松下電器産業株式会社
プラズマCVD方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-293119 出願人：三菱重工業株式会社
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-059876 出願人：東京エレクトロン株式会社

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