特許
J-GLOBAL ID:200903045115550933

波面分析を用いた光学系の客観測定と補正

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 川原田 一穂
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-522427
公開番号(公開出願番号):特表2001-524662
出願日: 1997年11月21日
公開日(公表日): 2001年12月04日
要約:
【要約】フォーカス光学系を客観測定及び補正するためのシステム及び方法が、ビーム(18)の経路内に光学素子系を含み、目(120)などのフォーカス光学系を通してビームを送り、その背面部(122)にてビームをフォーカスする。ビームは後方に拡散して反射し、光学素子系から投影される波面の経路内に設けた波面分析器(26)が、歪曲を計算してフォーカス光学系の収差を評価する。
請求項(抜粋):
放射ビームを発生するためのエネルギー源、 拡散反射面として機能する背面部を有するフォーカス光学系を通して前記ビームを送るために、前記ビームの経路内に配置された光学素子系であって、前記ビームは、放射の波面として前記背面部から後方に拡散反射され、該波面は、前記フォーカス光学系を通過して前記光学素子系に進入し、前記光学素子系は、該光学素子系に進入する前記波面に直接対応して前記波面を投影する、上記光学素子系、及び 前記フォーカス光学系の収差の評価として波面の歪曲を計算するため、前記光学素子系から投影される前記波面の経路内に配置された波面分析器、を含むシステム。
IPC (3件):
G01M 11/02 ,  A61B 3/10 ,  A61F 9/007
FI (4件):
G01M 11/02 B ,  A61B 3/10 H ,  A61B 3/10 R ,  A61F 9/00 570
Fターム (1件):
2G086HH06
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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