走査型投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-200911
公開番号（公開出願番号）：特開平7-057991
出願日： 1993年08月12日
公開日（公表日）： 1995年03月03日
要約：

【要約】【目的】重ね合わせ精度を高精度に維持できるスリットスキャン露光方式の投影露光装置を提供する。【構成】ウエハ上のショット領域に既に形成されているパターン34Bが台形状に歪んでいる場合に、スリット状の露光領域の露光位置xに応じて、その形状を露光領域IAi,IAm,IAf のように歪ませる。また、レチクルとウエハとの相対角度を、中央では0になり、走査方向の両端では逆向きになるように露光位置xに応じて次第に変化させると共に、露光領域内の照度ELの分布を直線37で示すようにy方向に沿って傾斜させる。

請求項（抜粋）：

照明光で所定の照明領域を照明する照明光学系と、前記所定の照明領域に対して転写用のパターンが形成されたマスクを所定の方向に走査するマスクステージと、前記所定の照明領域内の前記マスクのパターンの像を感光性の基板上に結像投影する投影光学系と、前記所定の照明領域と共役な露光領域に対して所定の方向に前記基板を走査する基板ステージとを有し、前記所定の照明領域及び前記露光領域に対してそれぞれ前記マスク及び前記基板を同期して走査することにより、前記マスクのパターンの像を逐次前記基板上に投影露光する走査型投影露光装置において、前記基板上に既に形成されているパターンの歪みに応じて、前記マスクステージによる前記マスクの走査方向と前記基板ステージによる前記基板の走査方向との相対角度を変化させる相対角度制御手段を設けたことを特徴とする走査型投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03B 27/32 , G03F 7/20 521

引用特許：

出願人引用 (6件)

特開昭64-059814
特開昭63-128713
特開昭62-024624

全件表示

審査官引用 (4件)

特開昭63-128713
特開昭63-128713
特開昭62-007129

全件表示

前のページに戻る