投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-079593
公開番号（公開出願番号）：特開平6-291016
出願日： 1993年04月06日
公開日（公表日）： 1994年10月18日
要約：

【要約】【目的】スキャンタイプの露光装置においても結像特性を正確に補正する。【構成】レチクルRとウェハWとが同期して移動し、スリット状照明領域IAとレチクルRとは相対的に移動する。レチクルR側から投影光学系PLに入射する照明光の入射エネルギーとウェハWからの戻り光のエネルギーとの総和(入射エネルギーE)をレチクルRとスリット状照明領域IAとの相対位置に応じて求め、レチクルRとスリット状照明領域IAとの相対位置に応じて変化する入射エネルギーEに基づいて投影光学系PLの結像特性を補正する。

請求項（抜粋）：

光源からの照明光を所定のパターンが設けられたマスクに導くとともに、該マスク上を所定の照明領域で照明する照明光学系と前記マスクのパターン像を感光基板に結像する投影光学系と前記マスクを保持して前記投影光学系の光軸に垂直な平面内でマスクを移動させるマスクステージと前記投影光学系の結像特性の補正を行う結像特性補正手段とを有し、前記マスクと前記照明領域とを相対的に移動させることにより前記回路パターン全面の露光を行う投影露光装置において、前記マスクを介して前記投影光学系に入射する前記照明光の前記マスクの位置に応じた強度を入力する入射光強度入力手段と;前記入射光強度入力手段からの情報に基づいて前記投影光学系の結像特性の変化を算出する結像特性演算手段と;前記結像特性演算手段の結果に基づいて前記結像特性補正手段を制御する制御手段とを有することを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 311 L , H01L 21/30 311 N

引用特許：

出願人引用 (9件)

特開平2-181416
特開平2-074024
特開昭63-058349

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