光学薄膜の作製方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-321299
公開番号（公開出願番号）：特開2002-194529
出願日： 2001年10月19日
公開日（公表日）： 2002年07月10日
要約：

【要約】【課題】不純物の混入が少なく、緻密性が高い光学層を多層数有する光学薄膜を作製する方法を提供する。【解決手段】マグネトロンスパッタ法により基板8面上に多層の光学層を有する光学薄膜を形成する際、スパッタ槽1内に不活性ガスおよび反応性ガスを導入し、1.3×10-1Pa以下の放電圧力の条件下において反応性マグネトロンスパッタ法により基板8面上に順次光学層を形成させる。

請求項（抜粋）：

スパッタ槽内にカソードと基板とターゲットとが配置されたマグネトロンスパッタ装置により前記基板面上に多層の光学層を有する光学薄膜を形成する光学薄膜の作製方法であって、前記スパッタ槽内に不活性ガスおよび反応性ガスを導入し、1.3×10-1Pa以下の放電圧力の条件下において反応性マグネトロンスパッタ法により前記基板面上に順次光学層を形成させることを特徴とする光学薄膜の作製方法。

IPC (2件)：

C23C 14/06 , G02B 5/28

FI (2件)：

C23C 14/06 P , G02B 5/28

Fターム (21件)：

2H048GA04 , 2H048GA33 , 2H048GA43 , 2H048GA60 , 4K029AA09 , 4K029AA24 , 4K029BA43 , 4K029BA46 , 4K029BB02 , 4K029BC07 , 4K029BD00 , 4K029CA06 , 4K029DA12 , 4K029DC16 , 4K029DC39 , 4K029DC45 , 4K029EA00 , 4K029EA01 , 4K029EA02 , 4K029EA03 , 4K029EA04

引用特許：

審査官引用 (9件)

光多重化デバイスおよび方法
公報種別：公表公報出願番号：特願平9-503209 出願人：コーニング-オーシーエイコーポレーション
合成樹脂製光学部材の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-002594 出願人：オリンパス光学工業株式会社
スパッタリング式成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-029771 出願人：三菱電機株式会社

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