特許
J-GLOBAL ID:200903045356751794
銅箔表面処理剤
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
加々美 紀雄 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-320394
公開番号(公開出願番号):特開2003-128923
出願日: 2001年10月18日
公開日(公表日): 2003年05月08日
要約:
【要約】【課題】 銅箔に絶縁樹脂との優れた密着性をもたらす表面処理剤を提供する。【解決手段】 本発明の表面処理剤は、下記一般式(1)で表される有機ケイ素化合物および/または一般式(2)で表される有機ケイ素化合物とオレフィン系シランカップリング剤とを有効成分とする。本発明の表面処理剤は、特に高周波対応の基板に用いるロープロファイル銅箔と絶縁樹脂とに優れた密着性をもたらすことができる。【化1】式(1)および(2)中、R1は水酸基または炭素数1〜5のアルキル基を示し、R2は酸素を含んでもよい炭素数1〜10のアルキレン基を示す。
請求項(抜粋):
下記一般式(1)で表される有機ケイ素化合物および/または一般式(2)で表される有機ケイ素化合物とオレフィン系シランカップリング剤とを有効成分とする銅箔表面処理剤。【化1】(上記式(1)および(2)中、R1は水酸基または炭素数1〜5のアルキル基を示し、R2は酸素を含んでもよい炭素数1〜10のアルキレン基を示し、Xは【化2】を示し、nは2以上の整数を示し、mは1以上の整数を示す。)
IPC (6件):
C08L 83/06
, C07F 7/08
, C08G 77/14
, C08K 5/541
, C23C 26/00
, H05K 3/38
FI (7件):
C08L 83/06
, C07F 7/08 S
, C07F 7/08 Y
, C08G 77/14
, C23C 26/00 A
, H05K 3/38 B
, C08K 5/54
Fターム (42件):
4H049VN01
, 4H049VP10
, 4H049VQ16
, 4H049VQ57
, 4H049VQ78
, 4H049VR22
, 4H049VR42
, 4H049VU22
, 4J002CP051
, 4J002CP061
, 4J002EX026
, 4J002EX036
, 4J002FD206
, 4J002GH00
, 4J002HA04
, 4J035AB02
, 4J035CA05N
, 4J035CA051
, 4J035CA082
, 4J035CA112
, 4J035EA01
, 4J035EB02
, 4J035LA02
, 4J035LB02
, 4K044AA06
, 4K044AA16
, 4K044AB02
, 4K044BA21
, 4K044BB01
, 4K044BC05
, 4K044CA53
, 4K044CA62
, 5E343AA02
, 5E343AA12
, 5E343BB24
, 5E343BB67
, 5E343CC21
, 5E343CC22
, 5E343CC32
, 5E343CC50
, 5E343EE52
, 5E343GG02
引用特許: