特許
J-GLOBAL ID:200903045565899413
赤外レーザ用反射ミラーとその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
川瀬 茂樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-107691
公開番号(公開出願番号):特開2003-302520
出願日: 2002年04月10日
公開日(公表日): 2003年10月24日
要約:
【要約】【課題】 反射率が99.5%を越える赤外レーザ用反射ミラーを提供すること。【解決手段】 シリコンまたは無酸素同基材の上に、低屈折率層としてZnSeまたはZnSを、高屈折率層としてGeを組み合わせた交互多層膜を複数組、イオンアシスト蒸着する。その際、低屈折率層膜厚fがf=λcosecθ/4nl(λは赤外波長、θは層中での反射角、nlは屈折率)となり、高屈折率層膜厚eがe=λcosecφ/4nh(λは赤外波長、φは層中での反射角、nhは屈折率)となる。また、表面のGeがアモルファスになり酸化されなくなる。HfO2(酸化ハフニウム)、Bi2O3(酸化ビスマス)をバインダー層として入れると密着性を高揚できる。
請求項(抜粋):
シリコンまたは無酸素銅基材と、その上に被覆された金層または銀層と、金層又は銀層の上に形成された0.05μm〜0.15μmのHfO2(酸化ハフニウム)またはBi2O3(酸化ビスマス)よりなるバインダー層と、イオンアシスト蒸着によって形成された膜厚fがf=λcosecθ/4nl(λは赤外波長、θは層中での反射角、nlは屈折率)であるZnSe(セレン化亜鉛)またはZnS(硫化亜鉛)の低屈折率層と、イオンアシスト蒸着によって形成された膜厚eがe=λcosecφ/4nh(λは赤外波長、φは層中での反射角、nhは屈折率)であるGeよりなる高屈折率層がm組(m≧2)組み合わされバインダー層の上に設けられた交互積層膜とよりなり、高屈折率層のGeがアモルファス化していることを特徴とする赤外レーザ用反射ミラー。
IPC (5件):
G02B 5/26
, C23C 14/06
, C23C 14/48
, G02B 5/08
, G02B 5/28
FI (5件):
G02B 5/26
, C23C 14/06 N
, C23C 14/48 D
, G02B 5/08 A
, G02B 5/28
Fターム (26件):
2H042DA04
, 2H042DA05
, 2H042DA08
, 2H042DA12
, 2H048FA05
, 2H048FA07
, 2H048FA09
, 2H048FA12
, 2H048FA24
, 2H048GA04
, 2H048GA07
, 2H048GA09
, 2H048GA19
, 2H048GA33
, 2H048GA60
, 2H048GA62
, 4K029AA02
, 4K029AA06
, 4K029BA05
, 4K029BA07
, 4K029BA41
, 4K029BA43
, 4K029CA05
, 4K029CA09
, 4K029DC35
, 4K029FA04
引用特許:
審査官引用 (5件)
-
円偏光ミラ-
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-355583
出願人:住友電気工業株式会社
-
光ディスク用原盤の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-359451
出願人:日本ビクター株式会社
-
画像形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-051225
出願人:キヤノン株式会社
全件表示
前のページに戻る