特許
J-GLOBAL ID：200903045700419745
露光用マスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-158605
公開番号（公開出願番号）：特開2005-340553
出願日： 2004年05月28日
公開日（公表日）： 2005年12月08日
要約：
【課題】斜め入射する露光光に対応する露光用マスクについて、斜め入射効果による影響で被露光体上転写像の忠実性が低下してしまうのを回避する。【解決手段】斜め入射する露光光を反射して被露光体上に所望パターンを転写するために用いられる露光用マスクを、前記露光光を吸収する作用を有したマスクブランクス膜2と、前記所望パターンに対応するパターン形状で前記マスクブランクス膜2上に配され前記露光光を反射する作用を有した反射膜3と、を備えて構成する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
斜め入射する露光光を反射して被露光体上に所望パターンを転写するために用いられる露光用マスクであって、
前記露光光を吸収する作用を有したマスクブランクス膜と、
前記所望パターンに対応するパターン形状で前記マスクブランクス膜上に配され、前記露光光を反射する作用を有した反射膜と
を備えることを特徴とする露光用マスク。
IPC (4件)：
H01L21/027
, G03F1/16
, G03F7/20
, G21K1/06
H01L21/30 531M
, G03F1/16 A
, G03F7/20 521
, G21K1/06 B
, G21K1/06 C
2H095BA01
, 2H095BA10
, 5F046GA03
, 5F046GB01
, 5F046GD10
