特許

J-GLOBAL ID：200903045771061868

熱処理装置

発明者： 溝崎 健吾 ,  吉田 正明
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-018300
公開番号（公開出願番号）：特開平11-204428
出願日： 1998年01月16日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：

【要約】【課題】 大型の被処理体を熱処理する場合にも被処理体の処理温度の面内均一性を向上することが可能な熱処理装置を提供する。【解決手段】 熱処理装置21,28は、基板Gを載置するホットプレート32と、ホットプレート32に圧入され、ホットプレート32を通して基板Gを加熱する加熱ヒータ33と、ホットプレート32の裏面および側面に対向して間隔をおいて設けられた、ホットプレート32から放射された熱を反射する反射板60とを有する。ホットプレート32の載置面32c内には、基板Gを取り囲む外枠62が設けられている。

請求項（抜粋）：

その上または上方に被処理体が配置され、被処理体を加熱する加熱プレートと、前記加熱プレートを加熱するヒーターと、前記加熱プレートから放射された熱を反射する反射板とを具備し、前記反射板は、前記加熱プレートの裏面に対向して配置された底面部と、前記加熱プレートの側面に対向して設けられた側壁部を有することを特徴とする熱処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/324

FI (2件)：

H01L 21/30 567 ,  H01L 21/324 K

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-138740   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-067436   出願人：大日本スクリーン製造株式会社