特許

J-GLOBAL ID：200903045777704930

反射防止膜

発明者： 鈴木 克巳 ,  照井 弘敏 ,  森脇 健 ,  布施 昌之 ,  森本 保
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
代理人 (2件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-239149
公開番号（公開出願番号）：特開2005-099757
出願日： 2004年08月19日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：

【課題】視感反射率が低く、可視光線透過率が高く、表面防汚性、表面硬度、特に耐引掻性に優れ、製造時間が短く、価格が安価である反射防止膜を提供する。 【解決手段】透明基体の少なくとも片面に、スパッタリング法で形成された高屈折率の第1層、低屈折率の第2層、高屈折率の第3層を有し、前記第3層表面を活性エネルギー線処理するか、または、前記第3層の上にプライマー層を有し、前記第3層またはプライマー層の上に塗布により形成される有機低屈折率層を有する反射防止膜。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

透明基体の少なくとも片面に反射防止層を設けた反射防止膜であって、 前記反射防止層が、高屈折率の第1層と、低屈折率の第2層と、表面が活性エネルギー線処理された高屈折率の第3層と、有機低屈折率層とをこの順で有し、 前記第1層の屈折率をn1 、前記第2層の屈折率をn2 、前記第3層の屈折率をn3 、前記有機低屈折率層の屈折率をn4 としたときに、1.6≦n1 ≦2.9、1.3≦n2 ≦2.0、1.6≦n3 ≦2.9、n1 -n2 >0、n3 -n2 >0、および、n3-n4 >0を満たし、 前記第1層、前記第2層および前記第3層がスパッタリング法により形成され、前記有機低屈折率層が湿式塗工法により形成される反射防止膜。

IPC (4件)：

G02B1/11 ,  B32B7/02 ,  C23C14/06 ,  G02B1/10

FI (4件)：

G02B1/10 A ,  B32B7/02 103 ,  C23C14/06 M ,  G02B1/10 Z

Fターム (88件)：

2K009AA07 ,  2K009AA15 ,  2K009BB02 ,  2K009BB13 ,  2K009BB14 ,  2K009BB15 ,  2K009BB24 ,  2K009BB25 ,  2K009BB28 ,  2K009CC02 ,  2K009CC03 ,  2K009CC06 ,  2K009CC24 ,  2K009CC33 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD04 ,  2K009DD05 ,  2K009DD06 ,  4F100AA19 ,  4F100AA20 ,  4F100AA33 ,  4F100AH06 ,  4F100AK17B ,  4F100AK17C ,  4F100AK17D ,  4F100AK17E ,  4F100AK42 ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA06 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10B ,  4F100BA10C ,  4F100BA25 ,  4F100EH46 ,  4F100EH462 ,  4F100EH66 ,  4F100EH662 ,  4F100EJ54 ,  4F100EJ542 ,  4F100EJ60 ,  4F100EJ602 ,  4F100EJ65 ,  4F100EJ85 ,  4F100EJ851 ,  4F100GB07 ,  4F100GB32 ,  4F100GB41 ,  4F100JK12E ,  4F100JK14 ,  4F100JM02 ,  4F100JM02E ,  4F100JN01 ,  4F100JN01A ,  4F100JN01B ,  4F100JN01C ,  4F100JN01D ,  4F100JN01E ,  4F100JN06 ,  4F100JN06B ,  4F100JN06C ,  4F100JN18B ,  4F100JN18C ,  4F100JN18D ,  4F100JN18E ,  4F100YY00A ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C ,  4F100YY00D ,  4F100YY00E ,  4K029AA11 ,  4K029BA43 ,  4K029BA45 ,  4K029BA46 ,  4K029BA47 ,  4K029BA48 ,  4K029BA49 ,  4K029BA50 ,  4K029BA51 ,  4K029BA58 ,  4K029BA60 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA05 ,  4K029GA03

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 導電性反射防止膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-215422   出願人：富士写真光機株式会社
• 反射防止膜
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-532741   出願人：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー

審査官引用 (8件)

• 反射防止フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-025854   出願人：株式会社ブリヂストン
• 反射防止性基材およびそれを用いた物品
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-147974   出願人：旭硝子株式会社
• 反射防止膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-287630   出願人：旭光学工業株式会社
• 反射防止フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-148807   出願人：大日本印刷株式会社
• 反射防止積層体、光学機能性積層体、及びそれを用いた表示装
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-072361   出願人：凸版印刷株式会社
• 光学フィルムおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-152987   出願人：旭硝子株式会社
• 反射防止フイルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-221484   出願人：株式会社麗光
• 反射防止フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-136037   出願人：株式会社ブリヂストン