ハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクスの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：米澤明 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-089488
公開番号（公開出願番号）：特開平7-295203
出願日： 1994年04月27日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：

【要約】【目的】短波長光に対して十分な透過率を有する高解像度リソグラフィーに使用可能なハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクスを得る。【構成】フッ素原子含有気体から生成したプラズマ中において金属クロムもしくはクロム化合物から蒸発またはスパッタリングさせたクロムを透明基板上に成膜させることによってフッ化クロム化合物を主体とする層の少なくとも1層を基板上に形成してハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクスを得る。

請求項（抜粋）：

ハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクスの製造方法において、フッ素原子含有気体から生成したプラズマ中において金属クロムもしくはクロム化合物からクロムを蒸発もしくはスパッタリングすることにより透明基板上にフッ化クロム化合物を主体とする層を形成することを特徴とするハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクスの製造方法。

IPC (2件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 528

引用特許：

審査官引用 (15件)

位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-041117 出願人：ホーヤ株式会社
位相シフトマスク
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-321294 出願人：凸版印刷株式会社
特開平1-172222

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