特許
J-GLOBAL ID：200903045870927583

光ビームのアレイの共焦点による3次元構造のイメージ形成

発明者：
ババヨフ、ノアム

ババヨフ、ノアム について

, 
グラサー-インバリ、イサイア

グラサー-インバリ、イサイア について


出願人/特許権者：
カデント・リミテッド

カデント・リミテッド について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-564004
公開番号（公開出願番号）：特表2002-522752
出願日： 1999年08月05日
公開日（公表日）： 2002年07月23日
要約：
【要約】3次元構造の一部分26の表面トポロジの決定が行われる。焦点光学系42とプローブ表面を通過する入射光ビーム36のアレイは前記一部分に照射される。焦点光学系はその光学系によって変更可能な位置72にある前記プローブ表面の前方に1以上の焦点面を限定する。ビームは構造上の照射されたスポット52を発生し、入射光線と反対の光路で伝播する反射光線の強度は焦点面の種々の位置で測定される(60)。反射光ビームの最大強度を発生するスポット特定位置を決定することにより前記トポロジを表すデータが発生される。歯の測定、ピンホールのマトリックスの格子とマイクロレンズアレイによる光ビーム、これらの角度からの同時的なイメージ形成は3つの異なる光成分により迅速に行うことができる。
請求項（抜粋）：
(a)焦点を結ぶ光学系とプローブ表面とを通る光路を伝播する入射光ビームのアレイを提供し、焦点を結ぶ光学系はその光学系によって変更可能な位置にある前記プローブ表面の前方に1以上の焦点面を限定し、各光ビームは前記1以上の焦点面にその焦点を有し、ビームは複数の照射スポットを構造上に生成し、 (b)入射光と反対の光路に沿ってこれらの各スポットから伝播する反射光ビームの強度を検出し、 (c)ステップ(a)と(b)を複数回反復し、その度毎に構造に関する焦点面の位置を変更し、 (d)各照射スポットに対して、それぞれの焦点面の位置でありそれぞれの反射光ビームの最大の測定強度を生成するスポット特定位置を決定し、 (e)前記部分のトポロジを表すデータを生成するステップを有することを特徴とする3次元構造の一部の表面トポロジを決定する方法。
Fターム (27件)：
2F065AA04 ,  2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065CC16 ,  2F065DD06 ,  2F065FF10 ,  2F065FF42 ,  2F065FF49 ,  2F065GG06 ,  2F065GG08 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL06 ,  2F065LL10 ,  2F065LL12 ,  2F065LL30 ,  2F065LL32 ,  2F065LL42 ,  2F065LL46 ,  2F065LL59 ,  2F065NN01 ,  2F065QQ00 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ32 ,  2F065SS02 ,  2F065SS13
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 共焦点光学装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-231549   出願人：株式会社小松製作所
  • 高さ判別装置および方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-181681   出願人：オムロン株式会社
  • 3次元形状測定装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-022332   出願人：日本電気株式会社

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