特許
J-GLOBAL ID：200903045875964363
パターンド媒体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 峰 隆司
, 福原 淑弘
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-084095
公開番号（公開出願番号）：特開2007-257801
出願日： 2006年03月24日
公開日（公表日）： 2007年10月04日
要約：
【課題】強磁性記録層を劣化させずダストの発生を抑えて磁性パターン間の溝を非磁性体で埋め込むことができ、表面が平坦で浮上ヘッドの浮上安定性を確保できるパターンド媒体を製造できる方法を提供する。【解決手段】基板上に、凸状の磁性パターンと磁性パターン間の凹部を充填する非磁性体とを含む磁気記録層を有するパターンド媒体を製造する方法であって、前記磁性パターン間の凹部を充填するように第1の非磁性体を成膜し、前記第1の非磁性体の界面改質を行い、前記第1の非磁性体上に第2の非磁性体を成膜し、前記第2および第1の非磁性体をエッチバックすることを特徴とするパターンド媒体の製造方法。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
基板上に、凸状の磁性パターンと磁性パターン間の凹部を充填する非磁性体とを含む磁気記録層を有するパターンド媒体を製造する方法であって、
前記磁性パターン間の凹部を充填するように第1の非磁性体を成膜し、
前記第1の非磁性体の界面改質を行い、
前記第1の非磁性体上に第2の非磁性体を成膜し、
前記第2および第1の非磁性体をエッチバックする
ことを特徴とするパターンド媒体の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (4件)：
5D006DA03
, 5D112AA20
, 5D112FA04
, 5D112GA20
出願人引用 (1件)
審査官引用 (6件)
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