ハーフミラー膜形成方法およびハーフミラー膜を有する光学部品

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田村敬二郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-216118
公開番号（公開出願番号）：特開2003-161817
出願日： 2002年07月25日
公開日（公表日）： 2003年06月06日
要約：

【要約】【課題】生産性が高く、光学性能も良く、透光性の基材との密着性が高く、かつ、クラックも入りにくいハーフミラー膜形成方法および該ハーフミラー膜を有する光学部品を提供する。【解決手段】このハーフミラー膜形成方法は、大気圧または大気圧近傍の圧力下において対向する電極25と36の間に放電することにより、反応性ガスをプラズマ状態とし、透光性を有する基材Fをプラズマ状態の反応性ガスに晒すことによって基材上にハーフミラー膜を形成する。この方法により形成されたハーフミラー膜は炭素含有率が好ましくは0.2〜5質量%である。

請求項（抜粋）：

透光性を有する基材上にハーフミラー膜を形成するハーフミラー膜形成方法であって、大気圧または大気圧近傍の圧力下において対向する電極間に放電することにより反応性ガスをプラズマ状態とし、前記基材を前記プラズマ状態の反応性ガスに晒すことによって前記基材上に前記ハーフミラー膜を形成することを特徴とするハーフミラー膜形成方法。

IPC (6件)：

G02B 5/08 , B32B 7/02 103 , B32B 9/00 , C23C 16/42 , C23C 16/50 , C23C 16/505

FI (8件)：

G02B 5/08 D , G02B 5/08 A , G02B 5/08 C , B32B 7/02 103 , B32B 9/00 A , C23C 16/42 , C23C 16/50 , C23C 16/505

Fターム (62件)：

2H042DA08 , 2H042DA11 , 2H042DA12 , 2H042DB01 , 2H042DC03 , 4F100AA12C , 4F100AA17C , 4F100AA19C , 4F100AA19D , 4F100AA20B , 4F100AA21B , 4F100AA21C , 4F100AA27C , 4F100AD05C , 4F100AG00A , 4F100AK01A , 4F100AK55 , 4F100AR00E , 4F100AT00A , 4F100BA02 , 4F100BA03 , 4F100BA04 , 4F100BA05 , 4F100BA07 , 4F100BA10A , 4F100BA10C , 4F100BA10D , 4F100BA10E , 4F100EJ61 , 4F100EJ61B , 4F100GB41 , 4F100JG05B , 4F100JG05C , 4F100JK06 , 4F100JK14 , 4F100JL02 , 4F100JL11 , 4F100JM02B , 4F100JM02C , 4F100JN01A , 4F100JN18B , 4F100JN18C , 4F100JN18D , 4F100JN18E , 4F100JN30B , 4F100JN30C , 4F100YY00B , 4F100YY00C , 4F100YY00D , 4F100YY00E , 4K030BA42 , 4K030BA43 , 4K030BA44 , 4K030BA46 , 4K030FA01 , 4K030GA14 , 4K030JA01 , 4K030JA09 , 4K030JA18 , 4K030KA17 , 4K030KA30 , 4K030LA11

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平2-281202
光学薄膜およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-273511 出願人：キヤノン株式会社
エキシマレーザー用ミラー及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-038574 出願人：株式会社ニコン

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