特許
J-GLOBAL ID：200903045896507930
サブ波長の光リソグラフィのための位相平衡された散乱バーのモデル・ベースの配置を実施するための方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-293098
公開番号（公開出願番号）：特開2005-122163
出願日： 2004年09月06日
公開日（公表日）： 2005年05月12日
要約：
【課題】光学的近接補正フィーチャが挿入されたマスクデザインを生成する。【解決手段】基板に投影すべきフィーチャを有するターゲット・パターンを取得する段階と、少なくとも1つのフィーチャとこれに隣接するフィールド区域との間の強め合う干渉区域を定義する、第1の干渉マップを決定する段階と、第1の干渉マップによって定義される干渉区域に基づいてマスクデザイン中に第1の位相を有する第1の組の支援フィーチャを配置する段階と、この第1の組の支援フィーチャと、このうちの少なくとも1つの支援フィーチャに隣接したフィールド区域との間の干渉区域を定義する、第2の干渉マップを決定する段階と、この第2の干渉マップによって定義される干渉区域に基づいてマスクデザイン中に第2の位相を有する第2の組の支援フィーチャを配置する段階を含んでおり、この第1の位相と第2の位相は等しくないものである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光学的近接補正フィーチャが挿入されたマスクデザインを生成する方法であって、
基板上に投影すべきフィーチャを有する所望のターゲット・パターンを取得する段階と、
投影すべき少なくとも1つの前記フィーチャと該少なくとも1つのフィーチャに隣接するフィールド区域との間の強め合う干渉区域を定義する、前記ターゲット・パターンに基づく第1の干渉マップを決定する段階と、
前記第1の干渉マップによって定義される前記強め合う干渉区域に基づいて前記マスク設計中に第1の位相を有する第1の組の支援フィーチャを配置する段階と、
前記第1の組の支援フィーチャのうちの支援フィーチャと、前記第1の組の支援フィーチャのうちの少なくとも1つの前記支援フィーチャに隣接したフィールド区域との間の強め合う干渉区域を定義する、前記第1の組の支援フィーチャに基づく第2の干渉マップを決定する段階と、
前記第2の干渉マップによって定義される前記強め合う干渉区域に基づいて前記マスク設計中に第2の位相を有する第2の組の支援フィーチャを配置する段階とを含み、前記第1の位相が、前記第2の位相と等しくない方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 A
, H01L21/30 502P
2H095BA02
, 2H095BB02
, 2H095BB03
, 2H095BC24
