特許
J-GLOBAL ID：200903016384473813
特定のマスク・パターンのための照明の最適化
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-097334
公開番号（公開出願番号）：特開2002-334836
出願日： 2002年02月22日
公開日（公表日）： 2002年11月22日
要約：
【要約】【課題】 選択したパターニング手段のパターンのための照明プロファイルを最適化する方法および装置を提供する。【解決手段】 マイクロリソグラフィのための方法および装置。この方法および装置は、特定のマスク・パターンの特徴に基づいて照明モードを最適化することを含む。照明は、レチクルの回折オーダーに基づいて適切な照明モードを決定すること、および投影光学系の自己相関によって、最適化される。変調に何の影響ももたない照明パターンの部分を除去することで、余分なDC光を減じることができ、これによって焦点深度を改善する。マスク・パターンの最適化には、サブレゾルーションのフィーチャを追加してピッチを減らし、空間幅の確率密度関数を打ち切ることが含まれる。
請求項（抜粋）：
選択したパターニング手段のパターンのための照明プロファイルを最適化する方法であって:照明装置および前記選択したパターニング手段のパターンを含む光学システムのための相互透過係数関数を規定するステップと;前記選択したパターンに基づいて回折オーダーの結像に対する相対的な関連性を求めるステップと;前記相互透過係数から最適化した照明形状を算出し、前記回折オーダーの結像に対する前記相対的な関連性に基づいて前記照明形状の領域に重み付けを行うステップと;を備える照明プロファイルを最適化する方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
G03F 7/20 521
, H01L 21/30 527
, H01L 21/30 502 G
5F046BA04
, 5F046CB17
, 5F046CB23
, 5F046DA30
, 5F046DB05
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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