透過光及び反射光を用いたエアリアルイメージ測定装置及びこれを用いた測定方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：八田幹雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-241495
公開番号（公開出願番号）：特開平10-123062
出願日： 1997年09月05日
公開日（公表日）： 1998年05月15日
要約：

【要約】【課題】エアリアルイメージ測定装置及び測定方法を提供する。【解決手段】光透過装置、光反射装置及びエアリアルイメージ形成装置を含む。前記光反射装置は、ビームスプリッタと反射鏡とを含む。前記ビームスプリッタは光源からの光を透過光経路と反射光経路とに分割する。前記反射鏡は前記反射光経路に沿って伝達された光がフォトマスクのパターンの形成された表面に照射されるよう光経路を転換させる。さらに、透過光と反射光中一つの光を選択し、選択された光を電気的な信号に変換してエアリアルイメージを形成し、該エアリアルイメージを測定する。これによって、フォトマスクの表面だけでなくその上に形成されたパターン上に存在する各種欠陥による影響も同時に検査し得る。

請求項（抜粋）：

光源からフォトマスクに照射された光によって形成されたエアリアルイメージを用いて、所定のパターンの形成されたフォトマスク上の欠陥を検査するためのエアリアルイメージ測定装置において、前記光源からの光をフォトマスクに照射して前記フォトマスクを透過する透過光を形成する光透過手段と、前記光源からの光を前記フォトマスクパターンの形成された表面に照射して前記パターンの形成された表面から反射される反射光を形成する光反射手段と、前記透過光及び反射光の中から選択されたいずれか一つの光を電気的信号に変換してエアリアルイメージを形成させるエアリアルイメージ形成装置を含むことを特徴とするエアリアルイメージ測定装置。

IPC (3件)：

G01N 21/88 , G01B 11/30 , H01L 21/027

FI (3件)：

G01N 21/88 E , G01B 11/30 C , H01L 21/30 502 V

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭58-058449
フオトマスク検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-203924 出願人：株式会社ニコン
マスク検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-229882 出願人：株式会社東芝

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