特許
J-GLOBAL ID：200903046058560532

非感圧ガス制御システム

発明者：
シェリフ,デーヴィッド・ピー

シェリフ,デーヴィッド・ピー について

, 
ワン,チウン

ワン,チウン について


出願人/特許権者：
ユニット・インストゥルメンツ・インコーポレーテッド

ユニット・インストゥルメンツ・インコーポレーテッド について


代理人 (1件)： 社本 一夫 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-509951
公開番号（公開出願番号）：特表2003-504888
出願日： 2000年07月12日
公開日（公表日）： 2003年02月04日
要約：
【要約】ガスセンサと、ガスセンサの上流および下流の制流部とを備える非感圧ガスプロセス装置。制流部によって、ガスセンサの上流および下流において圧力が低下するため、ガスセンサは、上流および下流それぞれにおける圧力変動から保護される。その結果、ガスセンサおよびガスプロセス装置全体が圧力変動に対して無感応になる。非感圧性を実現できるガスプロセス装置には、マスフローコントローラだけでなく、その他のタイプの装置も含まれる。
請求項（抜粋）：
ガスプロセス装置であって、 ガス入口と、 ガス出口と、 入口および出口を有し、前記入口はガスプロセス装置のガス入口に流体を通すように結合された第1の制流部と、 入口および出口を有し、前記入口は第1の制流部の出口に流体を通すように結合されたガスセンサと、 入口および出口を有し、前記入口はガスセンサの出口に流体を通すように結合され、前記出口はガスプロセス装置のガス出口に流体を通すように結合された第2の制流部と、を備えることを特徴とするガスプロセス装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205 ,  B01J 4/00 102 ,  G01F 1/68
FI (3件)：
H01L 21/205 ,  B01J 4/00 102 ,  G01F 1/68 Z
Fターム (11件)：
2F035AA06 ,  4G068AA02 ,  4G068AB01 ,  4G068AC05 ,  4G068AD40 ,  4G068AD49 ,  4G068AE01 ,  4G068AF06 ,  4G068AF17 ,  4G068AF40 ,  5F045EE04
引用特許：
出願人引用 (4件)
  • 遅れ補償機能付流量制御弁
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-188033   出願人：高橋久, シーケーディ株式会社
  • マスフローコントローラー
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-193710   出願人：九州日本電気株式会社
  • 気体貯蔵ならびに計量分配装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-350093   出願人：アドバンスド.テクノロジー.マテリアルズ.インコーポレイテッド
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審査官引用 (4件)
  • 遅れ補償機能付流量制御弁
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-188033   出願人：高橋久, シーケーディ株式会社
  • マスフローコントローラー
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-193710   出願人：九州日本電気株式会社
  • 気体貯蔵ならびに計量分配装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-350093   出願人：アドバンスド.テクノロジー.マテリアルズ.インコーポレイテッド
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