特許
J-GLOBAL ID：200903046090449813

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者：
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について

, 
佐藤 健一郎

佐藤 健一郎 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-196794
公開番号（公開出願番号）：特開2003-015296
出願日： 2001年06月28日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：
【要約】【課題】解像力、露光マージン、パターンのエッジラフネス、疎密依存性の諸特性に優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。【解決手段】(A)カチオン部がヨードニウム又はスルホニウムで構成され、アニオン部がRFSO3-(式中、RFは、炭素数1〜20のフッ素置換されたアルキル基である)で示されるアニオンで構成されているスルホン酸塩から選択され、かつ、アニオン部のRFの炭素数の差が2〜15の範囲にある少なくとも二つの活性光線又は放射線の照射により酸を発生する光酸発生剤、及び(B)特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)カチオン部がヨードニウム又はスルホニウムで構成され、アニオン部がRFSO3-(式中、RFは、炭素数1〜20のフッ素置換されたアルキル基である)で示されるアニオンで構成されているスルホン酸塩から選択され、かつ、アニオン部のRFの炭素数の差が2〜15の範囲にある少なくとも二つの活性光線又は放射線の照射により酸を発生する光酸発生剤、及び(B)下記一般式(I-1)〜(I-4)の少なくともいずれかで表される基を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】一般式(I-1)〜(I-4)中;R1〜R5は同じでも異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を表す。R1〜R5の内の2つは、結合して環を形成してもよい。
IPC (3件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (11件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17
引用特許：
審査官引用 (7件)
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