特許
J-GLOBAL ID:200903046107669871
ケイ素を製造及び/又は精製するための電解質及び方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
津国 肇
, 篠田 文雄
, 束田 幸四郎
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-502269
公開番号(公開出願番号):特表2004-532933
出願日: 2002年06月03日
公開日(公表日): 2004年10月28日
要約:
高級ケイ素の製造に特に適した、高温でケイ素を製造又は精製するための電解質。この電解質は、主にCaCl2及びCaOの塩融成物を含む。本発明はさらに、高温で塩融成物中でケイ素を製造する方法であって、リン及びホウ素の含有量が低い石英をそのような融成物中で電気分解に付す方法に関する。最後に、本発明は、ケイ素を精製する方法であって、精製されるケイ素を、上記の融成物を含む電解槽で使用される陽極のための合金元素として使用する方法に関する。
請求項(抜粋):
高温でケイ素を製造又は精製するための電解質であって、主にCaCl2及びCaOの塩融成物を含むことを特徴とする電解質。
IPC (2件):
FI (2件):
C25C3/34 Z
, C25C7/02 308Z
Fターム (7件):
4K058AA11
, 4K058BA33
, 4K058BB06
, 4K058CB05
, 4K058CB08
, 4K058EB13
, 4K058ED04
引用特許:
出願人引用 (4件)
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特公昭43-004106
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高純度シリコン及び高純度チタンの製造法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-262720
出願人:日本碍子株式会社
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ケイ素の精製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-189174
出願人:エルケム・アクシエセルスカプ
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高純度金属Siの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-346044
出願人:株式会社神戸製鋼所
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審査官引用 (4件)