特許
J-GLOBAL ID:200903046168022692

HVOF溶射装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-277286
公開番号(公開出願番号):特開2007-029950
出願日: 2006年10月11日
公開日(公表日): 2007年02月08日
要約:
【課題】Tiの酸化を抑えて緻密な金属TiもしくはTi合金の皮膜を形成することのできる手段に有用なHVOF溶射装置を提供する。【解決手段】本課題を解決するために、導管(2)の一端部に、燃料ガスを燃焼してノズル(4)より他端に向かってジェット流を噴射する燃焼室(1)を設け、前記導管(2)の途中に噴射用の粒子を前記ジェット流に混合する粒子混合部(3)が設けてあるHVOF溶射装置であって、前記燃焼室(1)内のノズル(4)側に、不活性ガスを混合する混合室(5)が設けてあることを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
導管(2)の一端部に、燃料ガスを燃焼してノズル(4)より他端に向かってジェット流を噴射する燃焼室(1)を設け、前記導管(2)の途中に噴射用の粒子を前記ジェット流に混合する粒子混合部(3)が設けてあるHVOF溶射装置であって、前記燃焼室(1)内のノズル(4)側に、不活性ガスを混合する混合室(5)が設けてあることを特徴とするHVOF溶射装置。
IPC (3件):
B05B 7/20 ,  C23C 4/00 ,  C23C 4/08
FI (3件):
B05B7/20 ,  C23C4/00 ,  C23C4/08
Fターム (18件):
4F033QA01 ,  4F033QB02Y ,  4F033QB04 ,  4F033QB13Y ,  4F033QB19 ,  4F033QD14 ,  4F033QE05 ,  4F033QG11 ,  4F033QG14 ,  4F033QG19 ,  4K031AA05 ,  4K031AA08 ,  4K031AB09 ,  4K031CB18 ,  4K031CB36 ,  4K031DA01 ,  4K031EA01 ,  4K031EA10
引用特許:
審査官引用 (2件)

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