特許
J-GLOBAL ID：200903046259598899

X線回折装置、反射X線測定方法および逆格子空間マップ作成方法

発明者：
青山 拓

青山 拓 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 森 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-398503
公開番号（公開出願番号）：特開2003-194741
出願日： 2001年12月27日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
要約：
【要約】【課題】 結晶性材料、特に薄膜結晶材料の結晶性評価を迅速かつ効率的に行うこと。【解決手段】 XRD1は、所定パターンに配列された複数の受光素子からなる検出器51を備えるため、逆格子空間マップを高速に作成することができる。また、検出器51を受光素子の配列された間隔未満の距離だけ移動させて、複数回走査することにより、走査における分解能を高めることができる。また、検出器51とステージ40との距離を変化させることにより、同時検出幅の分解能を調整することができる。さらに、検出器51の受光軸に対する角度を変化させることによっても、同時検出幅の分解能を調整することができる。
請求項（抜粋）：
試料を設置するステージと、所定の照射軸方向にX線を照射可能であり、該照射軸を前記ステージに向けて設置された照射部と、所定の受光軸方向からの反射X線を受光可能であり、該受光軸を前記ステージに向けて設置された受光部とを備え、前記照射軸の前記ステージに対する角度と、前記受光軸の前記ステージに対する角度とを独立に調整可能なX線回折装置であって、前記受光部は、所定パターンに配列された複数の受光素子からなる検出器を備えることを特徴とするX線回折装置。
IPC (4件)：
G01N 23/207 ,  G01T 1/29 ,  G21K 1/06 ,  G21K 5/02
FI (4件)：
G01N 23/207 ,  G01T 1/29 C ,  G21K 1/06 L ,  G21K 5/02 X
Fターム (21件)：
2G001AA01 ,  2G001BA18 ,  2G001CA01 ,  2G001DA07 ,  2G001DA09 ,  2G001DA10 ,  2G001GA13 ,  2G001JA01 ,  2G001JA06 ,  2G001JA08 ,  2G001PA12 ,  2G088EE30 ,  2G088FF03 ,  2G088GG00 ,  2G088GG19 ,  2G088GG21 ,  2G088JJ04 ,  2G088JJ05 ,  2G088JJ22 ,  2G088JJ23 ,  2G088JJ25
引用特許：
審査官引用 (4件)
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