特許
J-GLOBAL ID：200903037838148693
X線測定装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 寿武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-241235
公開番号（公開出願番号）：特開2001-066398
出願日： 1999年08月27日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
要約：
【要約】【課題】 各種の薄膜成長炉と組み合わせて、薄膜製造現場において簡易にX線測定を実現し得る汎用性のあるX線測定装置を提供する。【解決手段】 あらかじめX線入射窓11およびX線取出窓12が形成され、かつ内部に試料配置部13aを備えたチャンバ10の周囲に、X線照射ユニット20とX線検出ユニットとを配置する。X線照射ユニット20は、基台21、スライド盤22、支持ポール23、回転盤24、および支持アーム25を含む入射側支持手段と、この入射側支持手段によって支持されたX線源26、湾曲結晶モノクロメータ27、および入射スリット28を含むX線照射手段とで構成されている。また、X線検出ユニット30は、基台31、スライド盤32、支持ポール33、および回転盤34を含む受光側支持手段と、X線検出器35(X線検出手段)とで構成されている。
請求項（抜粋）：
あらかじめX線入射窓およびX線取出窓が形成され、かつ内部に試料配置部を備えたチャンバの周囲に独立して設置されるX線測定装置であって、X線照射手段と、このX線照射手段を支持するとともに、前記チャンバ内の試料に対して所定の入射角度でX線を入射するための位置決め機能を備えた入射側支持手段と、X線検出手段と、このX線検出手段を支持するとともに、前記チャンバ内の試料から所定角度で反射してきたX線を前記X線検出手段に導くための位置決め機能を備えた受光側支持手段と、を備えたことを特徴とするX線測定装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G21K 1/06 F
, G01N 23/201
2G001AA01
, 2G001BA18
, 2G001CA01
, 2G001DA02
, 2G001DA06
, 2G001DA09
, 2G001EA02
, 2G001EA09
, 2G001FA02
, 2G001GA01
, 2G001GA08
, 2G001GA13
, 2G001HA01
, 2G001JA01
, 2G001JA05
, 2G001JA06
, 2G001JA08
, 2G001JA20
, 2G001KA01
, 2G001KA08
, 2G001KA11
, 2G001KA20
, 2G001MA05
, 2G001PA11
, 2G001PA12
, 2G001PA14
, 2G001SA02
, 2G001SA10
