特許
J-GLOBAL ID：200903046260632855

紫外線照射装置

発明者：
細谷 浩二

細谷 浩二 について

, 
江崎 真伍

江崎 真伍 について


出願人/特許権者：
日本電池株式会社

日本電池株式会社 について


代理人 (1件)： 河▲崎▼ 眞樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-265318
公開番号（公開出願番号）：特開2004-097986
出願日： 2002年09月11日
公開日（公表日）： 2004年04月02日
要約：
【課題】検査時以外は紫外線強度センサ3をエキシマランプ1から離反させることにより、この紫外線強度センサ3の真空紫外線による劣化を防止すると共に熱の影響も受けないようにすることができる紫外線照射装置を提供する。【解決手段】空気中に配置した真空紫外線を放射するエキシマランプ1の上方に、このエキシマランプ1から放射された真空紫外線の強度を測定する紫外線強度センサ3が配置されると共に、この紫外線強度センサ3をエキシマランプ1の上方3mm程度(d1)に接近した位置と上方10mm以上(d2)に離反した位置に移動可能とするエアシリンダ4が設けられた構成とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
真空紫外線を放射する紫外線ランプの近傍の空気中に、放射された真空紫外線の強度を測定する紫外線強度センサが配置されると共に、この紫外線強度センサを紫外線ランプに接近した位置と離反した位置に移動可能とするセンサ移動機構が設けられたことを特徴とする紫外線照射装置。
IPC (5件)：
B01J19/12 ,  B08B7/00 ,  G02F1/13 ,  G21K5/00 ,  H01J65/00
FI (6件)：
B01J19/12 C ,  B08B7/00 ,  G02F1/13 101 ,  G21K5/00 A ,  G21K5/00 Z ,  H01J65/00 B
Fターム (18件)：
2H088EA67 ,  2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB13 ,  3B116BC01 ,  3B116CD42 ,  3B116CD43 ,  4G075AA30 ,  4G075AA65 ,  4G075BB10 ,  4G075CA33 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EB32 ,  4G075ED20
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-183910   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 紫外線照射装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-083667   出願人：ウシオ電機株式会社

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