特許
J-GLOBAL ID:200903046276041350

記録層における光学的バンドギャップの調整方法、光記録媒体、及び光記録媒体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 名古屋国際特許業務法人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-271482
公開番号(公開出願番号):特開2009-099228
出願日: 2007年10月18日
公開日(公表日): 2009年05月07日
要約:
【課題】容易に記録層における光学的バンドギャップを調整する方法、光記録媒体、及び光記録媒体の製造方法を提供すること。【解決手段】必須成分としてCxHy及びH2を、任意成分としてN2及び/又はNH3を含む混合ガスを用いてプラズマ反応成膜することで形成される光記録媒体1の記録層7、9における光学的バンドギャップの調整方法であって、前記混合ガスにおけるH2、及び/又は前記任意成分の混合比率を調整することを特徴とする記録層における光学的バンドギャップの調整方法。【選択図】図1
請求項(抜粋):
必須成分としてCxHy(xは1〜5の自然数であり、yは2〜10の自然数)及びH2を、任意成分としてN2及び/又はNH3を含む混合ガスを用いてプラズマ反応成膜することで形成される光記録媒体の記録層における光学的バンドギャップの調整方法であって、 前記混合ガスにおけるH2、及び/又は前記任意成分の混合比率を調整することを特徴とする記録層における光学的バンドギャップの調整方法。
IPC (4件):
G11B 7/26 ,  G11B 7/244 ,  G11B 7/24 ,  B41M 5/26
FI (6件):
G11B7/26 531 ,  G11B7/24 516 ,  G11B7/24 522A ,  G11B7/24 535E ,  G11B7/24 522C ,  B41M5/26 Y
Fターム (19件):
2H111EA03 ,  2H111EA12 ,  2H111EA22 ,  2H111EA25 ,  2H111EA32 ,  2H111EA43 ,  2H111EA44 ,  2H111FA02 ,  2H111FA12 ,  2H111FA14 ,  2H111FB50 ,  2H111GA04 ,  5D029JA04 ,  5D029JB02 ,  5D029JC20 ,  5D029LB04 ,  5D121AA01 ,  5D121EE06 ,  5D121EE17
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (7件)
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