特許
J-GLOBAL ID：200903046297803285

グレートーンマスクブランクとその製造方法、グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法

発明者：
佐野 道明

佐野 道明 について

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井村 和久

井村 和久 について

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木村 泰樹

木村 泰樹 について

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三井 勝

三井 勝 について


出願人/特許権者：
HOYA株式会社

HOYA株式会社 について


代理人 (1件)： 大塚 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-256928
公開番号（公開出願番号）：特開2009-086382
出願日： 2007年09月29日
公開日（公表日）： 2009年04月23日
要約：
【課題】半透光膜を用いたグレートーンマスクにおいて、精緻なパターンを形成するときに、被転写体上に所望のパターンが得られるグレートーンマスクブランク及びグレートーンマスクを提供する。【解決手段】被転写体に対する露光光の照射量を部位によって選択的に低減し、被転写体上に残膜値の異なる部分を含む所望の転写パターンを形成するグレートーンマスクの製造に用いるためのグレートーンマスクブランクであって、該グレートーンマスクブランクは、透明基板上に半透光膜と遮光膜とを有し、半透光膜は、基板面内の少なくともマスクパターンが形成される領域内における、露光光透過率の分布が4.0%以内である。該マスクブランクに所定のパターニングを施すことにより、遮光部と透光部と、半透光膜による半透光部を形成し、グレートーンマスクとする。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
被転写体に対する露光光の照射量を部位によって選択的に低減し、被転写体上のフォトレジストに、残膜値の異なる部分を含む所望の転写パターンを形成するグレートーンマスクの製造に用いるためのグレートーンマスクブランクであって、 該グレートーンマスクブランクは、透明基板上に半透光膜と遮光膜とを有し、該マスクブランクに所定のパターニングを施すことにより、遮光部と、半透光膜により露光光の一部を透過する半透光部と、膜を有しない透光部を形成し、グレートーンマスクとするものであり、 前記半透光膜は、基板面内の少なくともマスクパターンが形成される領域内における、露光光透過率の分布が、4.0%以内であることを特徴とするグレートーンマスクブランク。
IPC (2件)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F1/08 A ,  H01L21/30 502P
Fターム (5件)：
2H095BA12 ,  2H095BB02 ,  2H095BB31 ,  2H095BB35 ,  2H095BC04
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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