特許
J-GLOBAL ID:200903046317292797
透明導電膜積層体の製造方法及び透明導電膜積層体並びにそれを用いた物品
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-301149
公開番号(公開出願番号):特開2005-071837
出願日: 2003年08月26日
公開日(公表日): 2005年03月17日
要約:
【課題】 高い透明性、導電率、耐傷性基材への密着性をもつ高性能な透明導電膜を高い生産性で、かつ環境負荷を低くしつつ生産することができる透明導電膜積層体の製造方法を提供すること。【解決手段】 大気圧もしくはその近傍の圧力下、放電空間に薄膜形成ガスを含有するガスを供給し、該放電空間に高周波電界を印加することにより該薄膜形成ガスを励起し、プラズマ状態としたガスに透明基材を晒すことにより該透明基材上に透明導電膜を形成する透明導電膜積層体の製造方法において、透明導電膜を形成する薄膜形成ガスが、窒素ガスを含有する放電ガスを含むこと。好ましくは、高周波電界が第1の高周波電界および第2の高周波電界を重畳したものであること。【選択図】 図6
請求項(抜粋):
大気圧もしくはその近傍の圧力下、放電空間に薄膜形成ガスを含有するガスを供給し、該放電空間に高周波電界を印加することにより該薄膜形成ガスを励起し、プラズマ状態としたガスに透明基材を晒すことにより該透明基材上に透明導電膜を形成する透明導電膜積層体の製造方法において、プライマー層を形成する薄膜形成ガスとして1種類以上の放電ガス、1種類以上の有機金属化合物及び1種類以上の反応性ガスからなる混合ガスを前記放電空間に供給し、該放電空間に高周波電界を印加することにより該プライマー層を形成する薄膜形成ガスを励起し、プラズマ状態としたガスに該透明基材を晒すことにより該透明基材上にプライマー層を形成し、次いで、透明導電膜を形成する薄膜形成ガスとして窒素ガスを含有する放電ガス、1種類以上の有機金属化合物及び1種類以上の反応性ガスからなる混合ガスを該放電空間に供給し、該放電空間に高周波電界を印加することにより該透明導電膜を形成する薄膜形成ガスを励起し、プラズマ状態としたガスに該プライマー層を形成した透明基材を晒すことにより該プライマー層上に透明導電膜を形成することを特徴とする透明導電膜積層体の製造方法。
IPC (8件):
H01B13/00
, B01J19/08
, C23C16/40
, H01B5/14
, H05B33/02
, H05B33/10
, H05B33/14
, H05B33/28
FI (9件):
H01B13/00 503B
, B01J19/08 H
, C23C16/40
, H01B5/14 A
, H01B5/14 B
, H05B33/02
, H05B33/10
, H05B33/14 A
, H05B33/28
Fターム (65件):
3K007AB05
, 3K007AB18
, 3K007CA05
, 3K007CB01
, 3K007DB03
, 3K007FA00
, 3K007FA01
, 4G075AA24
, 4G075AA30
, 4G075AA62
, 4G075BA02
, 4G075BC04
, 4G075CA47
, 4G075CA51
, 4G075CA57
, 4G075EB41
, 4G075FC04
, 4K030AA11
, 4K030AA12
, 4K030AA18
, 4K030BA01
, 4K030BA02
, 4K030BA06
, 4K030BA11
, 4K030BA13
, 4K030BA16
, 4K030BA17
, 4K030BA18
, 4K030BA19
, 4K030BA20
, 4K030BA21
, 4K030BA22
, 4K030BA27
, 4K030BA29
, 4K030BA35
, 4K030BA42
, 4K030BB12
, 4K030BB13
, 4K030CA07
, 4K030CA12
, 4K030CA17
, 4K030DA02
, 4K030FA01
, 4K030HA03
, 4K030HA11
, 4K030JA06
, 4K030JA09
, 4K030JA14
, 4K030JA16
, 4K030JA18
, 4K030JA19
, 4K030KA14
, 4K030KA46
, 4K030LA00
, 4K030LA01
, 4K030LA18
, 5G307FA02
, 5G307FB01
, 5G307FC01
, 5G307FC03
, 5G307FC05
, 5G307FC09
, 5G323BA04
, 5G323BB03
, 5G323BC01
引用特許:
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