光学薄膜製造装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡部正夫 (外13名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-254616
公開番号（公開出願番号）：特開2001-073136
出願日： 1999年09月08日
公開日（公表日）： 2001年03月21日
要約：

【要約】【課題】高充填密度で所望する特性を持つ光学薄膜素子を短時間で効率良く生産する事の出来る光学薄膜製造装置を提供する。【解決手段】回転する基板ドームへ高周波電力を印加すると共に、本発明装置が従来の真空蒸着法としても使用可能とするために基板を加熱する機構を装備しているが、該基板ドームが高温状態でも効率良く高周波電力を印加する為に、自己潤滑材の2硫化タングステン(WS2)や2硫化モリブデン(MoS2)から成る高周波電力給電機構を備えている。基板ドームへ印加する高周波電力と同じ電力をモニタリング基板へ供給する際に、異常放電を抑制するために、絶縁部材を使用してモニタ筒及びモニタセットプレートを真空槽から絶縁する構造としている。又、基板ドームと基板加熱ヒータドーム間での異常放電を抑制する為に、両者の間に取付けたシールドをメッシュ構造としている。

請求項（抜粋）：

光学(誘電体)薄膜を製造する装置において、高充填密度の光学薄膜を基板ドーム全面で得る為に、高周波電力を基板ドームに直接印加する機構を取付けた事を特徴とする光学薄膜製造装置。

IPC (2件)：

C23C 14/50 , G02B 1/10

FI (3件)：

C23C 14/50 E , C23C 14/50 G , G02B 1/10 Z

Fターム (13件)：

2K009AA00 , 2K009AA02 , 2K009BB02 , 2K009CC00 , 2K009DD03 , 2K009DD04 , 4K029BC07 , 4K029DA08 , 4K029DA10 , 4K029DD02 , 4K029EA01 , 4K029EA06 , 4K029JA02

引用特許：

審査官引用 (5件)

プラズマディスプレイパネルの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-273443 出願人：日本電気株式会社, 株式会社昭和真空
アルミナ膜形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-005565 出願人：石川島播磨重工業株式会社
特開昭62-195815

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