特許
J-GLOBAL ID：200903046347349882
水処理における促進酸化処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 富士弥 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-284268
公開番号（公開出願番号）：特開平9-122662
出願日： 1995年11月01日
公開日（公表日）： 1997年05月13日
要約：
【要約】【課題】 原水に対する促進酸化処理を実施するに際して、OHラジカルによる反応効率を高めて処理時間の短縮及び処理装置の小型化とコストの低廉化をはかることができる処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】 接触反応槽1の内部に越流式の反応室を構成し、該反応室の内方底面近傍に散気管4を配置して、原水7中にオゾン等の強力な酸化力を持つガスを放散するようにした水処理において、上記接触反応槽1とは別体にオゾン発生装置5から得られるオゾンと過酸化水素水12を原料として得られる水蒸気からOHラジカルを生成するOHラジカル生成部14を設け、該OHラジカル生成部14で得られたOHラジカルを配管15を介して散気管4に供給して原水7中に放散するようにした促進酸化処理装置を提供する。
請求項（抜粋）：
密閉型接触反応槽の内部に越流式の反応室を構成し、該反応室の内方底面近傍に散気管を配置して、原水中にオゾン等の強力な酸化力を持つガスを放散するようにした水処理装置において、上記接触反応槽と別体に、オゾン発生装置から得られるオゾンと過酸化水素水を原料として得られる水蒸気からOHラジカルを生成するOHラジカル生成部を設け、該OHラジカル生成部で得られたOHラジカルを配管を介して前記散気管に供給して原水中に放散するようにしたことを特徴とする、水処理における促進酸化処理装置。
IPC (3件)：
C02F 1/72 ZAB
, C02F 1/32
, C02F 1/78 ZAB
C02F 1/72 ZAB Z
, C02F 1/32
, C02F 1/78 ZAB
