液晶に有用な粒子ビームを使用して表面上に整列パターンを形成するための方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：坂口博 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-117242
公開番号（公開出願番号）：特開平10-096928
出願日： 1997年05月07日
公開日（公表日）： 1998年04月14日
要約：

【要約】【課題】液晶ディスプレイ・セル用の整列表面上にパターン化された整列方向を生成する方法を提供する。【解決手段】セルは、それのポリイミド表面のような整列表面上に第1整列方向を形成することによって形成される。第2整列方向が整列表面上に形成される。第1及び第2整列方向は種々の処理シーケンスによって形成される。第1シーケンスの例は整列表面を研磨する第1ステップ、しかる後、電磁放射線に対する暴露及び粒子ビームに対する暴露のグループから選択された処理に対して整列表面を選択的に暴露する(望ましくは、マスクを使用して)第2ステップである。シーケンスのもう1つの例は、電磁放射線及び粒子ビームのグループから選択された処理に対して整列表面を暴露する第1ステップ、しかる後、他の粒子ビームに対して整列表面を選択的に暴露する(望ましくは、マスクを通して)第2ステップである。

請求項（抜粋）：

液晶ディスプレイ・セルのための整列表面上にパターン化された整列方向を生成するための方法にして、前記整列表面上に第1整列方向を形成するステップと、前記整列表面上に第2整列方向を形成するステップと、を含み、前記第1及び第2整列方向は第1シーケンス及び第2シーケンスより成るグループから選択された一連の処理によって形成され、前記第1シーケンスは前記整列表面を研磨する第1ステップ及び、しかる後、電磁放射線に対する暴露及び粒子ビームに対する暴露より成るグループから選択された処理に対して前記整列表面を選択的に暴露する第2ステップを含み、前記第2シーケンスは電磁放射線及び粒子ビームより成るグループから選択された処理に対して前記整列表面を暴露する第1ステップ及び、しかる後、前記整列表面を他の粒子ビームに対して選択的に暴露する第2ステップを含むことを特徴とする方法。

IPC (2件)：

G02F 1/1337 , C08G 73/10

FI (2件)：

G02F 1/1337 , C08G 73/10

引用特許：

審査官引用 (5件)

液晶表示装置とその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-323199 出願人：京セラ株式会社
特開平3-083017
特開平1-172817

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