特許

J-GLOBAL ID：200903046434274597

ターゲットエミッタ

発明者： 星野 秀往 ,  今井 陽介
出願人/特許権者： 株式会社小松製作所
代理人 (3件)： 上村 輝之 ,  宮川 長夫 ,  中村 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-387002
公開番号（公開出願番号）：特開2004-184408
出願日： 2003年11月17日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：

【課題】 半導体加工用の極紫外光発生装置において、ターゲット液体を噴出させるノズルの温度を適温に保持できるようにする。【解決手段】 突出部43aはキャップ45の先端面から前方に突出しており、突出部43aの先端面からその近傍部位にかけての直径は2.0mm以下に設定されている。突出部43aの、キャップ45の先端面から前方への突出距離は突出部43aの先端面の直径よりも長い値に設定されている。突出部43aをキャップ45の先端面から前方へ突出させることにより、プラズマ球から出射する極紫外光を取出すのに有効な立体角を大きくすることができ、プラズマ球から出射する極紫外光の、楕円凹面鏡における受光量を多くすることが可能になる。【選択図】 図5

請求項（抜粋）：

極紫外光発生装置に用いられるターゲット液体流を発射するターゲットエミッタ(9)(29)(55)において、 ターゲット液体流が先端から出るようにしたノズル(37)(43)と、 前記ノズル(37)(43)の外側に設けられ、前記ノズル(37)(43)との間に空間が形成されるように前記ノズル(37)(43)の少なくとも先端部若しくはその近傍部位を覆うキャップ(39)(45)と、 を備えるターゲットエミッタ。

IPC (2件)：

G21K5/08 ,  H05H1/24

FI (3件)：

G21K5/08 X ,  G21K5/08 C ,  H05H1/24

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 極紫外光源内のガス噴射制御のためのノズル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-012664   出願人：ティーアールダブリュー・インコーポレーテッド
• 米国特許第5,577,092号公報(第4欄〜第6欄、図1、図2)
  

審査官引用 (3件)

• 間接冷却方式プラズマジェットトーチ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-226911   出願人：動力炉・核燃料開発事業団
• プラズマジェットによる窒化方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-108347   出願人：新日本製鐵株式会社
• 核融合装置およびその運転方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-146315   出願人：株式会社東芝