投影露光装置、及び素子製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-093844
公開番号（公開出願番号）：特開2000-306829
出願日： 1993年04月06日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
要約：

【要約】【課題】スキャン露光方式でも、マスクのパターンの像を正確に基板上に形成する。【解決手段】基板ステージ(WST)の位置情報を計測可能な、スキャン方向に平行な2つの計測軸とそのスキャン方向と直交する2つの計測軸とを含む5つの計測軸を有する干渉計システム(19x1,19x2,19y1,19y2,19ya)を備える。

請求項（抜粋）：

マスクを第1方向へ移動するとともに、基板を第2方向へ移動することによって、前記基板を走査露光する投影露光装置において、前記マスクを保持して移動可能なマスクステージと、前記基板を保持して移動可能な基板ステージと、前記マスクステージの位置情報を計測可能な第1干渉計システムと、前記第2方向に平行な2つの計測軸と前記第2方向と直交する2つの計測軸とを含む5つの計測軸を有し前記基板ステージの位置情報を計測可能な第2干渉計システムと、を備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G01B 11/00 , G01B 11/26 , G03F 9/00

FI (5件)：

H01L 21/30 516 B , G01B 11/00 G , G01B 11/26 G , G03F 9/00 H , H01L 21/30 516 A

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開平4-277612
特開平4-196513
特開平4-140691

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