特許

J-GLOBAL ID：200903046561227875

基板処理方法および基板処理装置

発明者： 柿村 崇 ,  北村 嘉孝 ,  木▲崎▼ 幸治
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (3件)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-088643
公開番号（公開出願番号）：特開2006-269928
出願日： 2005年03月25日
公開日（公表日）： 2006年10月05日
要約：

【課題】洗浄工程、加熱工程、冷却工程、および塗布工程を含む一連の基板処理において、基板の裏面から異物が除去された状態で塗布工程を実行することができる技術を提供する。【解決手段】塗布工程前の冷却工程において、基板9を冷却するとともに基板9の裏面9aに窒素ガスを吹き付け、基板9の裏面9aから異物を吹き飛ばす。このため、基板9の裏面9aから異物が除去された状態で塗布工程を実行することができる。このようにすれば、塗布工程の際にテーブル上において基板が部分的に浮き上がることはなく、基板9の表面にレジスト液を均一に塗布することができる。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

基板を洗浄する洗浄工程と、 前記洗浄工程の後に基板を加熱する加熱工程と、 前記加熱工程の後に基板を冷却する冷却工程と、 前記冷却工程の後に基板の裏面を保持面にて保持しつつ基板の表面に塗布液を供給する塗布工程と、 を含み、 前記冷却工程以降から前記塗布工程前の期間において、基板の裏面を洗浄する塗布前裏面洗浄工程をさらに含むことを特徴とする基板処理方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  B05C 9/10 ,  B05C 9/14 ,  B05D 3/10 ,  H01L 21/304

FI (5件)：

H01L21/30 564Z ,  B05C9/10 ,  B05C9/14 ,  B05D3/10 F ,  H01L21/304 645A

Fターム (22件)：

4D075BB18Z ,  4D075BB24Y ,  4D075BB57Z ,  4D075BB65X ,  4D075BB65Z ,  4D075CA13 ,  4D075CA47 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4D075EA45 ,  4F042AA02 ,  4F042AA06 ,  4F042AA07 ,  4F042AB00 ,  4F042DA01 ,  4F042DA08 ,  4F042DA09 ,  5F046JA01

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-079321   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-083451   出願人：大日本スクリーン製造株式会社