特許
J-GLOBAL ID：200903020619920925

基板処理装置

発明者：
谷口 訓

谷口 訓 について

, 
木瀬 一夫

木瀬 一夫 について

, 
山本 悟史

山本 悟史 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-079321
公開番号（公開出願番号）：特開平11-274265
出願日： 1998年03月26日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：
【要約】【課題】 基板処理装置を平面的に小さな装置にする。【解決手段】 基板処理装置は、基板に対して一連の処理を行うための装置であって、多段オーブン20aと、旋回ロボットとを備えている。多段オーブン20aは、搬入用及び搬出用コンベア室21,26と加熱室25a等とが上下方向に重ねられたものである。搬入用及び搬出用コンベア室21,26は、基板の搬入あるいは搬出のための室である。加熱室25a等は、基板に対して処理を施す室である。旋回ロボットは、搬入用及び搬出用コンベア室21,26と加熱室25a等との間で基板の移動を行う。
請求項（抜粋）：
基板に対して一連の処理を行うための基板処理装置であって、基板の搬入あるいは搬出のための搬送室と基板に対して処理を施す処理室とが上下方向に重ねられた多段処理部と、前記搬送室と前記処理室との間で基板の移動を行うロボットと、を備えた基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/68 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 514 D ,  H01L 21/30 514 E
引用特許：
出願人引用 (11件)
  • 処理方法及び塗布現像処理システム
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-252316   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 板状体の搬送装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-110421   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
  • フィルタ装置及びレジスト処理システム
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-098443   出願人：東京エレクトロン株式会社
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審査官引用 (9件)
  • 処理方法及び塗布現像処理システム
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-252316   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 板状体の搬送装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-110421   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
  • フィルタ装置及びレジスト処理システム
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-098443   出願人：東京エレクトロン株式会社
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