特許
J-GLOBAL ID：200903046570671907
陰極スパッタ用ターゲットおよびかかるターゲットの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-213760
公開番号（公開出願番号）：特開平9-170076
出願日： 1996年08月13日
公開日（公表日）： 1997年06月30日
要約：
【要約】【課題】 高い強度および同時に高いスパッタ速度により優れている陰極スパッタ用ターゲットを提供する。【解決手段】 理論密度の少なくとも95%の密度および不足化学量論的酸素含量を有し、熱間圧縮または静水圧熱間圧縮した酸化インジウム/酸化スズ粉末を基礎とするターゲットは、少なくとも90%の重量割合が酸化インジウムおよび酸化スズの混晶として構成されていて、2μmと20μmの間の平均粒度を有する結晶相を有する。酸素含量の明確な調節およびターゲットの全体積にわたる均一な化学組成を許容するターゲットは、微細な金属インジウム-スズの酸化により製造した原料粉末を使用することにより、簡単かつ価格的に有利に製造することができる。
請求項（抜粋）：
理論密度の少なくとも95%の密度および不足化学量論的酸素含量を有する、熱間圧縮または静水圧熱間圧縮した酸化インジウム/酸化スズ粉末を基礎とする陰極スパッタ用ターゲットにおいて、ターゲットが、少なくとも90%の重量割合が酸化インジウムと酸化スズの混晶として構成されていて、2μmと20μmの間の平均粒度を有する結晶相を有することを特徴とする陰極スパッタ用ターゲット。
IPC (5件)：
C23C 14/34
, C01G 15/00
, C01G 19/02
, C23C 14/08
, H01B 1/16
C23C 14/34 A
, C01G 15/00 B
, C01G 19/02 Z
, C23C 14/08 D
, H01B 1/16 A
