特許

J-GLOBAL ID：200903046704173640

プラズマプロセスリアクタのガスインジェクションスリットノズル

発明者： ダン メイダン ,  スティーヴン エス. ワイ. マック ,  ドナルド オルガド ,  ジェラルド ズィー. イン ,  ティモシー ディー. ドリスコール ,  ジェイムス エス. パパニュ ,  アヴィ テップマン
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-272406
公開番号（公開出願番号）：特開平9-186140
出願日： 1996年10月15日
公開日（公表日）： 1997年07月15日
要約：

【要約】【課題】 エッチレイトの均一性及び設計の融通性を実現し同時にサイクル寿命を伸ばす。【解決手段】チャンバハウジングと、ワークピースを保持するペデスタルと、RFエネルギーをチャンバ内に印加するための装置と、エッチャント種を含有するガスのガスサプライを有するガスインジェクション装置と、チャンバハウジングにある開口と、チャンバハウジングの開口に設置され、チャンバの内部に面する少なくとも一つのスロットアパーチャー及び一つ以上のスロットアパーチャーからのガスの流量を制御する装置を備えたガス散布装置と、サプライからガス散布装置までのガスフィードラインとを有する、プラズマリアクタ真空チャンバにガスを注入するガスインジェクション装置。

請求項（抜粋）：

プラズマリアクタであって、チャンバハウジングを有するリアクタ真空チャンバと、処理しようとするワークピースを保持するペデスタルと、前記チャンバへRFエネルギーを印加するRFエネルギー印加手段と、ガスインジェクション装置であって、処理用の成分であるエッチャント種を含有するガスのガス供給手段と、前記チャンバハウジングの開口と、前記チャンバハウジングの前記開口の中に配置されたガス散布装置であって、前記ガス散布装置は、前記チャンバの内部に面する少なくとも1つの細長いスロットアパーチャーと、前記少なくとも1つのスロットアパーチャーから前記チャンバの内部へのガスの流量を制御するガスフローコントローラとを備える、前記ガス散布装置と、前記ガス供給手段から前記ガス散布装置へのガスフィードラインとを備えるプラズマリアクタ。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  H05H 1/42

FI (3件)：

H01L 21/302 B ,  C23F 4/00 A ,  H05H 1/42

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 高密度プラズマCVD及びエッチングリアクタ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-203633   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• 真空処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-302486   出願人：東京エレクトロン山梨株式会社
• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-347436   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社