特許

J-GLOBAL ID：200903046848373112

高純度疎水性有機溶媒分散シリカゾル及びその製造方法

発明者： 木田 宏幸 ,  柳澤 孝郎 ,  国時 英之 ,  中永 陽
出願人/特許権者： 扶桑化学工業株式会社
代理人 (1件)： 清原 義博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-151139
公開番号（公開出願番号）：特開2005-314197
出願日： 2004年05月21日
公開日（公表日）： 2005年11月10日
要約：

【課題】 電子材料、膜材料、有機面の研磨剤等の素材として高濃度で疎水性有機溶媒に安定分散した高純度疎水性有機溶媒分散シリカゾル及びその製造方法を提供すること。【解決手段】 シリカ微粒子が疎水性有機溶媒に分散している高純度疎水性有機溶媒分散シリカゾルであって、該シリカ微粒子の粒子径が500nm以下であり、金属不純物含有量が1.0ppm以下であり、該シリカ微粒子を20重量%を超えて含有していても長期安定であることを特徴とする高純度疎水性有機溶媒分散シリカゾルとする。

請求項（抜粋）：

シリカ微粒子が疎水性有機溶媒に分散している高純度疎水性有機溶媒分散シリカゾルであって、該シリカ微粒子の粒子径が500nm以下であり、金属不純物含有量が1.0ppm以下であり、該シリカ微粒子を20重量%を超えて含有していても長期安定であることを特徴とする高純度疎水性有機溶媒分散シリカゾル。

IPC (1件)：

C01B33/145

FI (1件)：

C01B33/145

Fターム (11件)：

4G072AA25 ,  4G072AA28 ,  4G072BB05 ,  4G072CC02 ,  4G072EE07 ,  4G072GG01 ,  4G072GG02 ,  4G072HH30 ,  4G072MM01 ,  4G072PP01 ,  4G072QQ07

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 疎水性オルガノシリカゾルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-136315   出願人：日産化学工業株式会社
• シリカプロパノールゾルの製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-219891   出願人：日産化学工業株式会社

審査官引用 (4件)

• 特開平2-160613
  
• 疎水性オルガノシリカゾルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-136315   出願人：日産化学工業株式会社
• 特開昭63-182204
  
• 疎水化コロイダルシリカの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-024767   出願人：ジェイエスアール株式会社, 日本特殊コーティング株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• 扶桑化学の電子材料事業のご紹介, 200212