特許
J-GLOBAL ID：200903046950286950
成膜装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松村 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-249780
公開番号（公開出願番号）：特開2000-080185
出願日： 1998年09月03日
公開日（公表日）： 2000年03月21日
要約：
【要約】【課題】ベースフィルムに関するキャリブレーションデータを予め用意することなく、しかも高精度の光学特性の測定を可能にする。【解決手段】真空槽10内においてベースフィルム25上に真空スパッタリングの方法によって光学薄膜を成形するようにした装置において、成膜前のベースフィルム25の光学特性を分光器37によって検出するとともに、成膜後のベースフィルム25の光学特性を分光器46、53によって測定し、これらの値を分光器37によって得られる成膜前のベースフィルム25の光学特性の値を基にして補正を加えるようにしたものである。
請求項（抜粋）：
透明または半透明のベース上に薄膜を連続的に形成するようにした成膜装置において、薄膜を形成する前の前記ベースの光学特性を測定する第1の測定手段と、薄膜を形成する途中または薄膜を形成した後の光学特性を測定する第2の測定手段と、を具備する薄膜装置。
Fターム (4件)：
4F073AA14
, 4F073BB01
, 4F073CA49
, 4F073CA51
