特許
J-GLOBAL ID：200903047015185327

X線分析装置

発明者：
小 関 雅 人

小 関 雅 人 について

, 
雨 宮 將 美

雨 宮 將 美 について


出願人/特許権者：
日本電子エンジニアリング株式会社

日本電子エンジニアリング株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-218126
公開番号（公開出願番号）：特開2004-061223
出願日： 2002年07月26日
公開日（公表日）： 2004年02月26日
要約：
【課題】プラスチック中の微量カドミウムの量を正確に測定できるX線分析装置を提供する。【解決手段】Rhターゲットを有するX線管5と、プラスチック試料4間に、X線フィルタ6が配置されている。第1X線フィルタ6aはジルコニウムからなり、第2X線フィルタ6bは銅からなり、第3X線フィルタ6cはモリブデンからなる。第1フィルタ6aの厚さは100μm程度、第2フィルタ6bの厚さは200μm程度、第3フィルタ6cの厚さは40μm程度である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
X線管からの1次X線を試料に照射し、その1次X線照射によって試料から発生した2次X線を検出して試料分析を行うようにしたX線分析装置において、 次の構成要素(a),(b),(c)を備えたX線フィルタを、前記X線管と前記試料との間に配置したことを特徴とするX線分析装置 (a)前記X線管からの1次X線を濾波する第1X線フィルタ (b)前記第1X線フィルタを透過したX線を濾波する第2X線フィルタ (c)前記第2X線フィルタを透過したX線を濾波する第3X線フィルタ。
IPC (1件)：
G01N23/223
FI (1件)：
G01N23/223
Fターム (12件)：
2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001CA01 ,  2G001EA03 ,  2G001GA01 ,  2G001HA01 ,  2G001JA01 ,  2G001JA20 ,  2G001KA01 ,  2G001LA05 ,  2G001NA11 ,  2G001NA12
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM