特許
J-GLOBAL ID：200903047069341782
パターンの欠陥検査方法およびその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-264275
公開番号（公開出願番号）：特開2000-097869
出願日： 1998年09月18日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：
【要約】【課題】部分的に反射光量の異なる半導体ウエハのパターンの欠陥を、高感度・高信頼度で検出する。【解決手段】基板上に形成された本来同一となるように形成された複数のパターンの欠陥を検査する欠陥検査方法において、同一となるように形成された複数のパターンのうちの第1のパターンを撮像して第1の画像信号を得、この得た第1の画像信号を記憶し、同一となるように形成された複数のパターンのうちの第2のパターンを撮像して第2の画像信号を得、この第2の画像信号と記憶手段に記憶した第1の画像信号とを比較して第1の画像信号と第2の画像信号の不一致の度合いを検出し、この検出した不一致の度合いに関する情報を不一致の度合いの信頼度に関する情報と共に出力するようにした。
請求項（抜粋）：
基板上に形成された本来同一となるように形成された複数のパターンの欠陥を検査する欠陥検査方法であって、前記同一となるように形成された複数のパターンのうちの第1のパターンを撮像して第1の画像信号を得、該得た第1の画像信号を記憶し、前記同一となるように形成された複数のパターンのうちの第2のパターンを撮像して第2の画像信号を得、該第2の画像信号と前記記憶手段に記憶した第1の画像信号とを比較して該第1の画像信号と前記第2の画像信号の不一致の度合いを検出し、該検出した不一致の度合いに関する情報を該不一致の度合いの信頼度に関する情報と共に出力することを特徴とするパターンの欠陥検査方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 21/88 645 A
, G01B 11/30 D
2F065AA49
, 2F065BB02
, 2F065CC19
, 2F065CC25
, 2F065DD11
, 2F065EE00
, 2F065FF01
, 2F065FF04
, 2F065HH17
, 2F065JJ02
, 2F065JJ03
, 2F065JJ19
, 2F065JJ25
, 2F065JJ26
, 2F065MM03
, 2F065MM22
, 2F065PP12
, 2F065QQ03
, 2F065QQ08
, 2F065QQ11
, 2F065QQ18
, 2F065QQ23
, 2F065QQ24
, 2F065QQ25
, 2F065QQ29
, 2F065QQ31
, 2F065QQ42
, 2F065QQ43
, 2F065RR03
, 2F065SS03
, 2F065SS06
, 2F065SS11
, 2G051AA51
, 2G051AA90
, 2G051AB02
, 2G051CA03
, 2G051EA16
, 2G051EC06
, 2G051ED11
, 2G051ED21
