マルチビ-ム光源装置、マルチビ-ム走査装置および画像形成装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-375098
公開番号（公開出願番号）：特開2000-105347
出願日： 1998年12月11日
公開日（公表日）： 2000年04月11日
要約：

【要約】【課題】複数発光点を有する半導体レーザアレイを光源として、各々のレーザビームに対して像面側で均一なビーム間隔と均一なビーム形状を得ることができるマルチビーム光源装置を提供すること。【解決手段】コリメートレンズ35は鏡筒6に接着あるいは圧入され納められており、鏡筒6は回転基体3の嵌合孔3bに光軸A方向に半導体レーザアレイ30との位置を合わせて接着あるいは図示しないネジ等により固定される。回転基体3に固定された鏡筒6は基体10の嵌合孔10aと勘合し、鏡筒6の外径6aを回転中心として回動できるようになっている。一般にレンズ外径とレンズ光軸は精度良く偏芯は抑えられており、且つ鏡筒6の外径6aとコリメートレンズ35の嵌合部6bとは同一加工のため同軸精度が出ており、鏡筒6の外径の6aの中心とコリメートレンズ35の光軸Aとは正確に一致することになる。

請求項（抜粋）：

同一パッケージ内にアレイ状に等間隔の複数発光点を有する半導体レーザアレイを光源とし、これらの光源より発光された複数のレーザ光を各々平行光束にするコリメートレンズを有するマルチビーム光源装置において、半導体レーザアレイの両端の発光点間の中央部とコリメートレンズの光軸とが一致するように移動調整する調整手段を備え、前記コリメートレンズがコリメートレンズの光軸を中心として回動自在としたことを特徴とするマルチビーム光源装置。

IPC (3件)：

G02B 26/10 , B41J 2/44 , H04N 1/113

FI (4件)：

G02B 26/10 B , G02B 26/10 D , B41J 3/00 D , H04N 1/04 104 A

引用特許：

審査官引用 (2件)

光走査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-182822 出願人：キヤノン株式会社
マルチビーム走査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-173658 出願人：株式会社リコー

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