プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-083373
公開番号（公開出願番号）：特開2000-277296
出願日： 1999年03月26日
公開日（公表日）： 2000年10月06日
要約：

【要約】【課題】省スペース化と、大口径の試料への処理の効率化および均一化とを、両立的に実現する。【解決手段】処理室へ対向するマイクロ波導入窓の上に、環状導波管型アンテナ12aが配設されている。環状導波管型アンテナ12aは、環状で導電性の管状部材を有しており、この管状部材には、マイクロ波導入窓に対向する部位に、マイクロ波を処理室へと伝えるためのスロット15が開設されている。スロット15は、管状部材の周方向に沿って延在するとともに、マイクロ波が導入される部位(X軸の正方向の位置)から遠ざかるにしたがい、径方向の長さが拡大するように開設されている。

請求項（抜粋）：

処理対象である試料を載置する試料台が設けられた処理室へ、マイクロ波導入窓を介してマイクロ波を導入し、当該マイクロ波によりプラズマを生成し、当該プラズマを用いて前記試料に処理を施すプラズマ処理装置であって、前記マイクロ波導入窓に向けてマイクロ波を放射する環状導波管型アンテナを備え、当該環状導波管型アンテナは、マイクロ波を伝搬させる環状の管状部材と、該管状部材の周面に開設した導入口と、前記管状部材のマイクロ波導入窓に対向する部分に開設したスロットとを備え、前記スロットは、前記管状部材の周方向に沿った長さが径方向に沿った長さよりも大きく、その中心が、前記周方向に沿った前記管状部材の中心軸から前記径方向へ変位しているプラズマ処理装置。

IPC (6件)：

H05H 1/46 , C23C 16/511 , C23F 4/00 , H01L 21/205 , H01L 21/3065 , H01L 21/31

FI (6件)：

H05H 1/46 B , C23C 16/50 E , C23F 4/00 D , H01L 21/205 , H01L 21/31 C , H01L 21/302 B

Fターム (34件)：

4K030BA24 , 4K030BA26 , 4K030BA29 , 4K030BA42 , 4K030CA04 , 4K030FA01 , 4K030KA20 , 4K030KA45 , 4K030LA15 , 4K030LA18 , 4K057DA11 , 4K057DA20 , 4K057DB06 , 4K057DB11 , 4K057DB15 , 4K057DB20 , 4K057DD01 , 4K057DM29 , 4K057DM40 , 5F004AA01 , 5F004AA16 , 5F004BA16 , 5F004BB14 , 5F004BB29 , 5F004BD01 , 5F004BD03 , 5F004BD04 , 5F004DB06 , 5F045AA09 , 5F045BB02 , 5F045BB08 , 5F045DP03 , 5F045EB03 , 5F045EH03

引用特許：

審査官引用 (7件)

プラズマ発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-118299 出願人：三菱電機株式会社
プラズマ処理装置およびその方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-078934 出願人：株式会社日立製作所
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-217287 出願人：株式会社ダイヘン

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