特許
J-GLOBAL ID：200903047203820854
露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
宮井 暎夫
, 伊藤 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-166859
公開番号（公開出願番号）：特開2006-344648
出願日： 2005年06月07日
公開日（公表日）： 2006年12月21日
要約：
【課題】短時間に、孤立線パターンのベスト・フォーカスを測定することができる露光方法およびレンズ収差補正方法を提供する。【解決手段】単一の直線状パターンの開口部を有し直線状パターンの周辺部分が遮光部であるマスクを使用して、現像前の感光基板に直線状パターンを露光する露光工程と、マスクの直線状パターンの長手方向に対し垂直な方向に感光基板をマスクと相対的に平行にずらして露光工程を順次複数回行う第1の繰り返し工程と、第1の繰り返し工程の後ステージ高さを順次複数回変更して第1の繰り返し工程を繰り返す第2の繰り返す工程とを含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
露光装置のベスト・フォーカスを求めるための複数本の直線状パターンを感光基板に形成する露光装置の露光方法であって、
単一の直線状パターンの開口部を有し前記直線状パターンの周辺部分が遮光部であるマスクを使用して、現像前の前記感光基板に前記直線状パターンを露光する露光工程と、前記マスクの前記直線状パターンの長手方向に対し垂直な方向に前記感光基板を前記マスクと相対的に平行にずらして前記露光工程を順次複数回行う第1の繰り返し工程と、前記第1の繰り返し工程の後ステージ高さを順次複数回変更して前記第1の繰り返し工程を繰り返す第2の繰り返す工程とを含む露光方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 526Z
, G03F7/207 H
, H01L21/30 516A
5F046AA25
, 5F046BA04
, 5F046DA13
, 5F046DA14
, 5F046DD03
