特許

J-GLOBAL ID：200903047262358471

X線リソグラフィ用マスクメンブレン

発明者： 野口 仁 ,  寳田 恭之
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社 ,  寳田 恭之
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-296222
公開番号（公開出願番号）：特開平10-144584
出願日： 1996年11月08日
公開日（公表日）： 1998年05月29日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 機械的強度、SOR光照射耐性、可視光透過性を高めるための高い結晶性と、メンブレン作製のための膜応力との、二つの特性が共に好適であるX線リソグラフィ用マスクメンブレンを得る。【解決手段】 気相合成ダイヤモンド膜の片面もしくは両面に応力補正のための膜を形成した積層構造からなることを特徴とするX線リソグラフィ用マスクメンブレン。

請求項（抜粋）：

気相合成ダイヤモンド膜の片面もしくは両面に応力補正のための膜を形成した積層構造からなることを特徴とするX線リソグラフィ用マスクメンブレン。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  C30B 29/04 ,  G03F 7/20 503

FI (3件)：

H01L 21/30 531 M ,  C30B 29/04 A ,  G03F 7/20 503

引用特許：

審査官引用 (4件)

• X線リソグラフィマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-264129   出願人：凸版印刷株式会社
• 特開平4-338628
  
• X線露光用マスクおよびそれに用いるマスクブランク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-218432   出願人：凸版印刷株式会社
• 特開昭61-032425