特許
J-GLOBAL ID：200903047263280115
ブラックマトリックス基板の製造法およびカラーフィルター
発明者：
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出願人/特許権者：
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公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-242623
公開番号（公開出願番号）：特開平7-098408
出願日： 1993年09月29日
公開日（公表日）： 1995年04月11日
要約：
【要約】【目的】本発明は,光学的カラーフィルターに使用されるブラックマトリックス基板の製造法の提供を目的とする。【構成】透明導電層を形成した透明基板に,感光性透明レジスト剤を塗布し,ブラックマトリックスパターンを有するマスクを介して露光したのち,現像によりブラックマトリックスパターン部のレジスト層を除去し,露出した透明導電層に電着法によりブラックの電着膜を形成することを特徴とするブラックマトリックス基板の製造法、および該ブラックマトリックス基板上に,赤,緑,青の着色パターン層を形成してなるカラーフィルター。【効果】本発明により,安価でかつ平滑性の高いブラックマトリックス基板が得られるようになった。
請求項（抜粋）：
透明導電層を形成した透明基板に,感光性透明レジスト剤を塗布し,ブラックマトリックスパターンを有するマスクを介して露光したのち,現像によりブラックマトリックスパターン部のレジスト層を除去し,露出した透明導電層に電着法によりブラックの電着膜を形成することを特徴とするブラックマトリックス基板の製造法。
IPC (2件)：
G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 505
