特許
J-GLOBAL ID:200903047350810937
研磨パッドの製造方法、研磨パッド、及び半導体デバイスの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (4件):
鈴木 崇生
, 梶崎 弘一
, 尾崎 雄三
, 谷口 俊彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-358109
公開番号(公開出願番号):特開2004-188716
出願日: 2002年12月10日
公開日(公表日): 2004年07月08日
要約:
【課題】2液の反応によりポリウレタンを形成する成分の1方の成分に界面活性剤を添加して機械撹拌して気泡分散液とした後に残りの反応成分を混合してポリウレタンフォームとする製造方法において、ポリウレタン発泡体密度をより正確に調整して製造ロット間の密度のバラツキを低減することが可能な研磨パッド用ポリウレタン発泡体の製造方法を提供する。【解決手段】第1成分であるイソシアネート基含有プレポリマーに水酸基を有しないシリコン系ノニオン界面活性剤を添加して撹拌装置20により非反応性気体と撹拌して非反応性気体を微細気泡として分散させて気泡分散液1とする気泡分散液製造工程、気泡分散液1に第2成分を混合して硬化性気泡分散液とする混合工程、硬化工程、及び裁断工程を有し、気泡分散液製造工程において、液面検出装置32により液面高さを検知して密度調整を行う製造方法とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
イソシアネート基含有化合物を含む第1成分と活性水素基含有化合物を含む第2成分を混合させて微細気泡ポリウレタン発泡体からなる研磨パッドを製造する方法であり、
前記第1成分としてイソシアネート基含有プレポリマーを使用し、
撹拌機と混合容器とを備えた撹拌装置を使用し、
前記イソシアネート基含有プレポリマーにシリコン系ノニオン界面活性剤を添加して前記撹拌装置により非反応性気体と撹拌して前記非反応性気体を微細気泡として分散させて気泡分散液1とする気泡分散液製造工程、前記気泡分散液1に前記第2成分を混合して硬化性気泡分散液とする混合工程、前記硬化性気泡分散液を硬化させて微細気泡ポリウレタン発泡体とする硬化工程、及び前記微細気泡ポリウレタン発泡体を裁断して研磨パッドとする裁断工程を有し、
前記気泡分散液製造工程において、撹拌装置に備えた液面検出装置により液面高さを検知することにより密度調整を行うことを特徴とする研磨パッドの製造方法。
IPC (4件):
B29C39/44
, B24B37/00
, B29C39/02
, C08G18/10
FI (4件):
B29C39/44
, B24B37/00 C
, B29C39/02
, C08G18/10
Fターム (77件):
3C058AA07
, 3C058CB01
, 3C058CB03
, 3C058DA17
, 4F204AA42
, 4F204AB03
, 4F204AB10
, 4F204AG20
, 4F204AH81
, 4F204AP06
, 4F204AQ02
, 4F204AQ03
, 4F204EA01
, 4F204EB01
, 4F204EF01
, 4F204EF02
, 4F204EF27
, 4F204EK26
, 4F204EL02
, 4F204EW23
, 4J034CA04
, 4J034CA05
, 4J034CA15
, 4J034DA01
, 4J034DB04
, 4J034DB05
, 4J034DC02
, 4J034DF01
, 4J034DF14
, 4J034DG03
, 4J034DG04
, 4J034DG05
, 4J034DH00
, 4J034DJ08
, 4J034DJ09
, 4J034DK02
, 4J034DP13
, 4J034DP18
, 4J034DP20
, 4J034HA01
, 4J034HA02
, 4J034HA07
, 4J034HA08
, 4J034HB07
, 4J034HC01
, 4J034HC12
, 4J034HC13
, 4J034HC17
, 4J034HC22
, 4J034HC46
, 4J034HC52
, 4J034HC54
, 4J034HC61
, 4J034HC64
, 4J034HC67
, 4J034JA24
, 4J034JA25
, 4J034JA31
, 4J034JA42
, 4J034KB05
, 4J034MA24
, 4J034NA08
, 4J034NA09
, 4J034PA03
, 4J034PA05
, 4J034QB01
, 4J034QC01
, 4J034RA14
, 4J034RA19
, 4J034SA02
, 4J034SB01
, 4J034SB04
, 4J034SB05
, 4J034SC03
, 4J034SC04
, 4J034SD02
, 4J034SD03
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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