特許
J-GLOBAL ID:200903047386084264

濃度フィルタ、露光装置及び露光方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-273214
公開番号(公開出願番号):特開2001-102277
出願日: 1999年09月27日
公開日(公表日): 2001年04月13日
要約:
【要約】【課題】透過率が直線的に変化するグラデーション部を有する濃度フィルタを提供すること。【解決手段】光源が発する照明光を所定のパターンが形成された原板に投射する第1及び第2の照明光学系とを有する露光装置の第1の照明光学系と第2の照明光学系との間に濃度フィルタは挿入され、グラデーション部には、遮光パターン402と透光パターン401の繰り返しパターンがピッチPで配列形成され、ピッチPは、P≦λ/(NA1+NA2);(NA1:第1の照明光学系の濃度フィルタ側の開口数、NA2:第2の照明光学系の濃度フィルタ側の開口数、λ:照明光の波長),且つΔ/αP2=Si2-Si+12;(Δ:任意のi番目(iは自然数)の透光パターンとi+1番目の透光パターンの位置に対応する原板上での光強度差、Si:任意のi番目の透光パターン面積,α:定数),の二つの条件を満たす。
請求項(抜粋):
透光部と、この透光部を挟んで対向して設けられたグラデーション部と、前記透光部及びグラデーション部の周囲に形成された遮光部とを具備する濃度フィルタであって、前記濃度フィルタは、光源と、この光源が発する露光光を所定のパターンが形成された原板に投射する第1及び第2の照明光学系と、前記原板に形成されたパターンを被露光基板に投影する投影光学系とを有する露光装置の第1の照明光学系と第2の照明光学系との間に挿入され、前記グラデーション部には、遮光パターンと透光パターンの繰り返しパターンがピッチPで配列形成され、前記ピッチPは、P≦λ/(NA1+NA2)(NA1:第1の照明光学系の前記濃度フィルタ側の開口数、NA2:第2の照明光学系の前記濃度フィルタ側の開口数、λ:露光光の波長),且つ、Δ/αP2=Si2-Si+12(Δ:任意のi番目(iは自然数)の透光パターンとi+1番目の透光パターンの位置に対応する前記原板上での光強度差、Si,Si+1:任意のi番目,i+1番目の透光パターン面積,α:定数),の二つの条件を満たすことを特徴とする濃度フィルタ。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G02B 5/00 ,  G03F 7/20 521
FI (3件):
G02B 5/00 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D
Fターム (9件):
2H042AA06 ,  2H042AA11 ,  5F046AA11 ,  5F046AA12 ,  5F046BA04 ,  5F046CB05 ,  5F046CB08 ,  5F046CB23 ,  5F046DA01
引用特許:
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る