特許
J-GLOBAL ID:200903047518680015
フォトニッククリスタルファイバのファイバ端部処理方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (11件):
前田 弘
, 小山 廣毅
, 竹内 宏
, 嶋田 高久
, 竹内 祐二
, 今江 克実
, 藤田 篤史
, 二宮 克也
, 原田 智雄
, 後藤 高志
, 井関 勝守
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-035634
公開番号(公開出願番号):特開2004-246068
出願日: 2003年02月13日
公開日(公表日): 2004年09月02日
要約:
【課題】クラッドの細孔による吸湿及び吸着を防ぐことができるフォトニッククリスタルファイバを提供する。【解決手段】フォトニッククリスタルファイバ100のファイバ端部処理方法は、フォトニッククリスタルファイバ100のファイバ端部を、ファイバ軸に対して略垂直に切断するステップと、フォトニッククリスタルファイバ100のファイバ端面におけるクラッド112の複数の細孔112aを閉塞材130で閉塞するステップと、フォトニッククリスタルファイバ100におけるクラッド112の複数の細孔112aの閉塞材130が充填された部分を、クラッド112の複数の細孔112aが閉塞材130で閉塞された所定のファイバ端面が露出するように切断するステップと、を備える。【選択図】図3
請求項(抜粋):
中実又は中空のコアと、該コアを被覆するように設けられ該コアに沿って延びる複数の細孔が該コアを囲うように形成されてファイバ半径方向にフォトニッククリスタル構造が構成されたクラッドと、を備えたフォトニッククリスタルファイバのファイバ端部処理方法であって、
フォトニッククリスタルファイバのファイバ端面におけるクラッドの複数の細孔を閉塞材で閉塞するステップと、
上記フォトニッククリスタルファイバにおけるクラッドの複数の細孔の閉塞材が充填された部分を、クラッドの複数の細孔が閉塞材で閉塞された所定のファイバ端面が露出するように切断するステップと、を備えた、
ことを特徴とするフォトニッククリスタルファイバのファイバ端部処理方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (3件):
2H036JA00
, 2H036KA01
, 2H036KA03
引用特許:
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