特許
J-GLOBAL ID：200903047522515053
研磨用組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
恩田 博宣
, 恩田 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-054867
公開番号（公開出願番号）：特開2004-263074
出願日： 2003年02月28日
公開日（公表日）： 2004年09月24日
要約：
【課題】研磨速度の一層の向上を図ることができると共に、研磨後の被研磨物表面における欠陥の発生を低減することができ、かつ被研磨物表面の微小うねりを低減して平滑にすることができる研磨用組成物を提供する。【解決手段】研磨用組成物は、コロイダルシリカを研磨材とし、メタンスルホン酸、過酸化水素及び水を含有するものであり、磁気ディスク用基板の表面を仕上げ研磨するために用いられる。この研磨用組成物には更に、研磨速度を速くすると共に、基板表面の微小うねりを短時間で除去するために、クエン酸、マレイン酸、リンゴ酸等の研磨促進剤が含まれることが好ましい。更に、基板表面に保護膜を形成してスクラッチ等の欠陥が発生するのを低減するために、リン酸又はその塩が含まれることが好ましい。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
酸化ケイ素を研磨材とし、メタンスルホン酸、過酸化水素及び水を含有することを特徴とする研磨用組成物。
IPC (5件)：
C09K3/14
, B24B37/00
, C09K13/04
, C09K13/06
, G11B5/84
C09K3/14 550D
, C09K3/14 550Z
, B24B37/00 H
, C09K13/04 101
, C09K13/06 101
, G11B5/84 A
3C058AA07
, 3C058AC04
, 3C058CB01
, 3C058CB03
, 3C058DA17
, 5D112AA02
, 5D112AA24
, 5D112BA06
, 5D112GA09
