研磨用組成物およびそれを用いたメモリーハードディスクの製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉武賢次 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-096699
公開番号（公開出願番号）：特開2002-294225
出願日： 2001年03月29日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
要約：

【要約】【課題】研磨速度が大きくスクラッチの発生を抑制することが可能で、表面粗さを小さくすることができる研磨用組成物の提供。【解決手段】水、二酸化ケイ素、酸化剤、ならびにリンゴ酸、マレイン酸、乳酸、酢酸、クエン酸、コハク酸、マロン酸、グリコール酸、アジピン酸、アスコルビン酸、イタコン酸、イミノジ酢酸、グリオキシル酸、ギ酸、アクリル酸、クロトン酸、ニコチン酸、シトラコン酸および酒石酸からなる群より選ばれる少なくとも1種類の有機酸を含んでなり、組成物のpHが1以上7未満であり、かつ組成物が実質的に金属イオンを含有しない、メモリーハードディスクの研磨用組成物、およびそれを用いたメモリーハードディスクの製造方法。

請求項（抜粋）：

水、二酸化ケイ素、酸化剤、ならびにリンゴ酸、マレイン酸、乳酸、酢酸、クエン酸、コハク酸、マロン酸、グリコール酸、アジピン酸、アスコルビン酸、イタコン酸、イミノジ酢酸、グリオキシル酸、ギ酸、アクリル酸、クロトン酸、ニコチン酸、シトラコン酸および酒石酸からなる群より選ばれる少なくとも1種類の有機酸を含んでなり、組成物のpHが1以上7未満であり、かつ組成物が実質的に金属イオンを含有しないことを特徴とするメモリーハードディスク研磨用組成物。

IPC (3件)：

C09K 3/14 550 , B24B 37/00 , G11B 5/84

FI (3件)：

C09K 3/14 550 Z , B24B 37/00 H , G11B 5/84 A

Fターム (8件)：

3C058AA07 , 3C058CA01 , 3C058CB10 , 3C058DA02 , 5D112AA02 , 5D112AA03 , 5D112BD06 , 5D112GA14

引用特許：

審査官引用 (7件)

ウエハの研磨装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-107173 出願人：株式会社岡本工作機械製作所
研磨用スラリー及びこれを用いた研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-151179 出願人：三菱マテリアル株式会社
研磨用組成物およびそれを用いた研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-342123 出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド

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